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Transpector® SPS 殘余氣體分析儀
INFICON Transpector® 單壓取樣 (SPS) 殘余氣體分析儀為目標高壓過程提供上佳半導(dǎo)體晶圓和顯示屏面板保護。憑借適合單壓應(yīng)用的zui敏感空氣泄漏和過程污染檢測,Transpector SPS 可蕞大程度減少晶圓和面板報廢。它具有業(yè)內(nèi)比較早的檢測限值和測量速度,確保晶圓和面板產(chǎn)品的質(zhì)量和數(shù)量。Transpector SPS 提供可靠的過程監(jiān)控,確保實現(xiàn)穩(wěn)定的高壓過程,進而大程度提高過程能力和產(chǎn)量。該儀器融合了簡單且高成本效益的入口系統(tǒng)與經(jīng)實踐驗證的離子源和泵組,以提供低風(fēng)險、多回報的氣體分析解決方案。Transpector SPS 是一種經(jīng)過驗證的解決方案,適用于真空電弧重熔 (VAR) 等冶金和熱處理應(yīng)用,且是一般真空和工業(yè)應(yīng)用的理想之選。Transpector SPS 可根據(jù)具體應(yīng)用和預(yù)算進行配置和定制。 針對從 1E-4 Torr 到大氣的取樣過程壓強,均可選用標準孔板、劈刀和旁路線組合。耐腐蝕入口、離子源和泵組的設(shè)計可確保在蝕刻、CVD、ALD 和其他腐蝕性氣體過程中的耐受性。
1,得益于單壓取樣入口,很大程度降低晶圓和面板保護的總擁有成本;是擴散、外延和 RTP 等高壓 過程的理想之選
2,提供蕞低漏氣量和污染監(jiān)測,確保恒定高壓過程
3,通過 強大數(shù)據(jù)采集與同步實現(xiàn)無縫工廠集成和可靠阻斷
4,通過定制 配方優(yōu)化增強生產(chǎn)能力
5,通過即時現(xiàn)場專家響應(yīng)保護關(guān)鍵過程需求
1,PVD 過程
2,擴散和外延過程
3,蝕刻過程包括:金屬、電介質(zhì)、硅刻蝕, HDP-etch
4,CVD 過程包括:高 k 電介質(zhì)、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD
Transpector® SPS 殘余氣體分析儀
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