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概述

HCPK—200 微庫侖滴定儀基于動態(tài)微庫侖滴定原理設(shè)計(jì)而成。樣品引入高溫裂解管，其中待滴定的成分經(jīng)氧化由載氣帶入滴定池中，測量電解滴定過程中所消耗的電量，依法拉第定律即可測得樣品的含量。

特點(diǎn)

⑴、    具有技術(shù)的樣品裂解滴定系統(tǒng)，zui小檢測量提高了10倍，達(dá)到0.05ppm。

⑵、    設(shè)計(jì)的進(jìn)樣器，攪拌器，使儀器的穩(wěn)定性有了進(jìn)一步提高。

⑶、    整機(jī)設(shè)計(jì)采用模塊化結(jié)構(gòu)，簡捷、緊湊、維護(hù)方便。

⑷、    采用Windows中文操作平臺，操作直觀、方便，動態(tài)顯示分析過程中實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)和分析譜圖，具有譜圖保存功能、歷史譜圖查看功能、數(shù)據(jù)存貯及自動生成打印報(bào)表等功能，可聯(lián)接LIMS工作站等。

應(yīng)用

測定各類固體、液體、氣體中的總硫、總氯含量。儀器廣泛應(yīng)用于石化、石油、化工、環(huán)保、冶金、高校等部門的產(chǎn)品分析、科學(xué)研究。

技術(shù)規(guī)格

分析方法：動態(tài)微庫侖法

測量范圍：S：0.05～5000ppm   Cl：0.3～5000ppm

zui大電解電壓：±30V

偏壓范圍：0～500mV

所需氣體：氧氣（純度99.7%）  氮?dú)猓兌?/span>99.7%）

控溫范圍：室溫～1000℃

標(biāo)    準(zhǔn)：符合SH/T 0254、SH/T 0523、SH/T0222標(biāo)準(zhǔn)