一、設(shè)備基本原理與特點(diǎn)

1. 基本原理

真空鉬帶爐該真空爐是用鉬帶作發(fā)熱元件的真空電阻爐，在抽真空狀態(tài)下， 鉬帶電阻產(chǎn)生熱量，使?fàn)t腔內(nèi)產(chǎn)生高溫，通過(guò)熱輻射傳導(dǎo)到材料上，適用于科研、軍工單位對(duì)難熔合金如鎢、鉬及其合金的粉末成型燒結(jié)。主要應(yīng)用于陶瓷、硬質(zhì)合金、復(fù)合材料等在真空或保護(hù)氣氛中高溫?zé)Y(jié)，也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。

2.設(shè)備特點(diǎn)

1)       采用臥式、側(cè)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)：裝、卸物料精度高，操作方便；

2)       升溫快：升溫速率1~10℃/分鐘（≤1600℃），升溫速率1~5℃/分鐘（＞1600℃）；

3)       溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃（5點(diǎn)測(cè)溫，恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測(cè)）；

5)       安全性能好：采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制，安全可靠；

二、主要技術(shù)參數(shù)