近日，由英國科學(xué)院院士Russell Cowburn教授團隊研制的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)（Durham Magneto Optics, MicroWriter ML3）分別落戶中科院沈陽金屬所和合肥師范學(xué)院，將助力國內(nèi)各科研院所在新型材料加工、微納電子、光機電、微流控等諸多重點研究領(lǐng)域取得近一步發(fā)展。

小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)（MicroWriter ML3）進入國內(nèi)科研領(lǐng)域已有十年時間，在國內(nèi)約有200臺設(shè)備安裝落戶。憑借小巧緊湊的結(jié)構(gòu)(70 cm x 70 cm x 70 cm)、友好的操作系統(tǒng)、簡單的維護需求、超高的直寫速度，特別是無需掩膜版即可直寫曝光的特點極大地優(yōu)化了設(shè)計成本和研究效率，深受廣大科研用戶的喜愛。在小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter優(yōu)秀表現(xiàn)和Quantum Design中國全博士售后工程師團隊的努力下，清華大學(xué)、北京大學(xué)、中國科技大學(xué)、南京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、中科院等重點高校和研究機構(gòu)已復(fù)購多臺小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter，成為MicroWriter的“回頭客"。

圖1中科院沈陽金屬所安裝的配備0.4 μm鏡頭的MicroWriter旗艦型無掩膜光刻機

近日，中科院沈陽金屬所成功安裝了第一套小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter ML3。結(jié)合新硬件配置，該系統(tǒng)可以實現(xiàn)0.4 μm的極限分辨率，同時擁有包括0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm和5 μm五種特征分辨率鏡頭，可以實現(xiàn)不同精度下的快速曝光應(yīng)用。結(jié)合無掩膜版圖設(shè)計，科研人員可以隨時嘗試修改曝光圖形，并可以通過設(shè)備*的虛擬掩膜（Visual Mask aligner）功能實現(xiàn)實時對準(zhǔn)觀測（如圖2所示），極大地提高了科研工作的時效性和便捷性。

圖2. （左）虛擬掩膜對準(zhǔn)的實時界面（藍色區(qū)域是要曝光的電極圖案）及（右）終曝光顯影結(jié)果

圖3. 0.6 μm寬度的線條陣列曝光結(jié)果及局部細節(jié)

圖4. 0.4 μm孔徑的點陣曝光結(jié)果及局部細節(jié)

同時，合肥師范學(xué)院根據(jù)自身教學(xué)與科研的需要選擇了小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)Baby Plus型號。相比于功能全面的MicroWriter旗艦機型，Baby Plus著重于客戶的基本需求。Baby Plus配備有1 μm和5 μm兩個精度的鏡頭，可以滿足大部分的科研需求。

圖5. Quantum Design工程師為合肥師范學(xué)院師生進行無掩膜光刻機操作培訓(xùn)

這次在合肥師范學(xué)院安裝的MicroWriter Baby Plus配備的是405 nm波長光源，特別適用于在正性光刻膠上制備二維微納結(jié)構(gòu)和三維灰度結(jié)構(gòu)，助力客戶在微納機電，微納光學(xué)等領(lǐng)域的研究以及小批量的試產(chǎn)。Baby Plus也可升級成365 nm波長光源或365 nm-405 nm波長雙光源，方便研究人員制備以負性光刻膠為主的結(jié)構(gòu)，滿足客戶的各種需求。

圖6.左圖為利用405nm光源制備的微納電極圖形，右圖為三維灰度圖形

小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter的廣泛應(yīng)用在助力國內(nèi)科研發(fā)展的同時，也在全球其他有名單位獲得持續(xù)應(yīng)用和好評，包括斯坦福大學(xué)、東京大學(xué)、新加坡國立大學(xué)、伯克利大學(xué)（UC Berkeley）和美國航天局（NASA）等，證明了國內(nèi)外研究單位對其廣泛應(yīng)用及可靠性的認(rèn)可。

相關(guān)產(chǎn)品：

1、小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3：http://www.hbwxwy.cn/st166724/product_16839518.html