目錄:先鋒科技（香港）股份有限公司>>激光與量測(cè)>>鏡頭及光學(xué)元件測(cè)試設(shè)備>> 光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)x
| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2025-02-12 13:06:36瀏覽次數(shù)：3402評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子,交通 |
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Kaleo MultiWave 是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng)，用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀，測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過波差等參數(shù)。
Kaleo MultiWave 通過單次測(cè)量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質(zhì)量參數(shù)尊崇ISO 10110標(biāo)準(zhǔn)。表面不規(guī)則，粗糙度以及波紋亦可測(cè)試。
Kaleo MultiWave*的多波長(zhǎng)測(cè)試功能可以在光學(xué)元件設(shè)計(jì)的工作波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)試，從而對(duì)光學(xué)元件基底、鍍膜獲得完整的評(píng)價(jià)。儀器具備和傳統(tǒng)干涉儀同等的精度，同時(shí)具備更大的動(dòng)態(tài)范圍以測(cè)試復(fù)雜面形的光學(xué)元件。測(cè)試以雙程模式工作，兼容透射與反射測(cè)量。
多波長(zhǎng)干涉儀：
同一機(jī)臺(tái)，多個(gè)波長(zhǎng)
標(biāo)配：625nm - 780nm - 1050nm
可選：UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外
高動(dòng)態(tài)范圍：
> 20um PV
高度畸變波前測(cè)試
高精度：
精度與干涉儀同等
高重復(fù)度，低噪聲
高性價(jià)比的干涉儀解決方案
規(guī)范：
遵從ISO 5725 標(biāo)準(zhǔn)
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途：
表面面形測(cè)試
鍍膜（AR，介質(zhì)膜，金屬膜測(cè)試......）
窗片，干涉濾光片測(cè)試
透鏡，非平面鏡測(cè)試
應(yīng)用：
光學(xué)元件研發(fā)制造
濾光片及窗片制造
空間及防務(wù)
汽車工業(yè)
激光器及其應(yīng)用
光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave技術(shù)指標(biāo)：
光路結(jié)構(gòu) | 雙通路 |
標(biāo)準(zhǔn)配置波長(zhǎng) | 625, 780, 1050nm |
可選波長(zhǎng) | 400 - 1100nm，UV, IR |
有效口徑 | 130mm |
可重復(fù)性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), RWE | 10um PV |
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave測(cè)試實(shí)例：
與Fizeau干涉儀測(cè)試結(jié)果的比較
NBP-780濾光片測(cè)試。二者測(cè)量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面鏡3-D面形
單次測(cè)量，無(wú)需空白透鏡?？赏ㄟ^扣除理想曲面得知面形殘余誤差，從而獲知非球面鏡的加工質(zhì)量。
產(chǎn)線設(shè)備監(jiān)控
通過對(duì)塑料、樹脂模壓光學(xué)元件的直接測(cè)試，實(shí)時(shí)獲知加工效果，對(duì)模具狀態(tài)、工件調(diào)整精度等作出實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)。
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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