分析原理

鋁合金鍍鋅鎳合金測厚儀采用的是一種XRF光譜分析技術(shù)，X光管產(chǎn)生的X射線打到被測樣品時可以擊出原子的內(nèi)層電子，出現(xiàn)殼層空穴，當(dāng)外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來填充軌道空穴時，就會產(chǎn)生特征X射線。X射線探測器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號轉(zhuǎn)換成易于測量的電信號來得到待測元素的特征信息。

 鍍層厚度測試方法一般有以下幾種方法：

1、光學(xué)顯微鏡法。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T6462-2005

2、X-ray法（X射線法）。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T16921-2005

3、庫侖法，此法一般為仲裁方法。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T4955-2005

性能特點    

1. 長效穩(wěn)定X銅光管；

2.半導(dǎo)體硅片電制冷探測器，摒棄元素識別能力較弱的計數(shù)盒；

3.內(nèi)置天瑞儀器研發(fā)部研發(fā)的—信噪比增強(qiáng)器（SNE）與MCA多道分析器；

4.內(nèi)置高清晰攝像頭，方便用戶隨時觀測樣品；

5.脈沖處理器，數(shù)據(jù)處理快速準(zhǔn)確；

6.手動開關(guān)樣品腔，操作安全方便；

7.三重安全保護(hù)模式；

8.整體鋼架結(jié)構(gòu)、外型簡潔；

9.FP軟件，無標(biāo)準(zhǔn)樣品時亦可測量。

測量標(biāo)準(zhǔn)

1國標(biāo)GB/T 16921-2005/ISO 3497：2000

金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量X射線光譜方法

2.美國標(biāo)準(zhǔn)A754/A754M-08

Coating Weight（mass）of Metallic Coatings on steel by X-Ray Fluorescence

樣品測試步驟

1）              每天開機(jī)預(yù)熱30分鐘后打開測試軟件“FpThick”：

用戶使用“Administrator”，密碼：skyray

2）              進(jìn)入測試軟件后，選擇“測試條件”

點擊“確定”，即測試條件確定（儀器已設(shè)置好）

3）              選擇“工作曲線”

如待測樣品是鐵鍍鎳，則選擇Ni-Fe；其他依次類推

4）              放入“Ag片”對儀器進(jìn)行初始化

初始化完成后，（峰通道為1105，計數(shù)率達(dá)到一定的數(shù)，如300以上）。

5）              待測樣品測試

放入待測的樣品，通過攝像頭畫面觀察當(dāng)前放入的樣品的表面情況，以及儀器的X射線的聚焦點?？梢酝ㄟ^軟件提供的十字坐標(biāo)（也稱十字光標(biāo)）來定位該聚焦點，將樣品放在聚焦點位置。點擊“開始”，輸入樣品名稱后“確定”。

6）              測試完成后即可保持報告，報告的位置可以在桌面的“分析報告”快捷方式中的“鍍層報告”中找到。

注意：測試鍍層樣品時，必須先要確定是什么鍍層、選擇好對應(yīng)的工作曲線測試。

Thick8000型鋁合金鍍鋅鎳合金測厚儀

主要應(yīng)用于：金屬鍍層的厚度測量、電鍍液和鍍層含量的測定；黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測。

儀器配置                                            

1    硬件：主機(jī)壹臺，含下列主要部件： 

(1)   X光管                 (2) 半導(dǎo)體探測器

(3) 放大電路                (4) 高精度樣品移動平臺

(5) 高清晰攝像頭            (6) 高壓系統(tǒng)

(7) 上照、開放式樣品腔      (8）雙激光定位

(9) 玻璃屏蔽罩

2   軟件：天瑞X射線熒光光譜儀FpThick分析軟件V1.0

3   計算機(jī)、打印機(jī)各一臺

計算機(jī)（品牌，P4，液晶顯示屏）、打印機(jī)（佳能，彩色噴墨打印機(jī)）

4   資料：使用說明書（包括軟件操作說明書和硬件使用說明書）、出廠檢驗合格證明、裝箱單、保修單及其它應(yīng)提供資料各一份。

性能特點

1.精密的三維移動平臺； 

2.的樣品觀測系統(tǒng)； 

3.良好的圖像識別； 

4.輕松實現(xiàn)深槽樣品的檢測； 

5.四種微孔聚焦準(zhǔn)直器，自動切換； 

6.雙重保護(hù)措施，實現(xiàn)無縫防撞； 

7.采用大面積高分辨率探測器，有效降低檢出限，提高測試精度。

安裝要求：

1   環(huán)境溫度要求：15℃-30℃

2   環(huán)境相對濕度：<70%

3   工作電源：交流220±5V

4   周圍不能有強(qiáng)電磁干擾。

參數(shù)規(guī)格

1．分析元素范圍：硫（S）～鈾（U）； 

2.同時檢測元素：多24個元素，多達(dá)5層鍍層；

3.分析含量：一般為2ppm到99.9%；

4.鍍層厚度：一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）；

5.SDD探測器：分辨率低至135eV；

6.良好的微孔準(zhǔn)直技術(shù)：小孔徑達(dá)0.1mm,小光斑達(dá)0.1mm；

7.樣品觀察：配備全景和局部兩個工業(yè)高清攝像頭； 

8.準(zhǔn)直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合； 

9.儀器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm；

10.樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm；

11.樣品臺尺寸：393（W）x 258 （D）mm；

12.X/Y/Z平臺移動速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s；

13.X/Y/Z平臺重復(fù)定位精度：小于0.1um；