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國標二氧化硫殘留量測定儀器裝置
產(chǎn)品名稱：國標二氧化硫殘留量測定儀 二氧化硫測定裝置
型號:QYSO2-4Z
品牌：上海喬躍
工作條件：
電 源：AC 220V，50Hz
環(huán)境溫度：10-35℃
環(huán)境濕度：＜60%
二氧化硫殘留量測定儀產(chǎn)品特點：
自動加酸、遠紅外陶瓷加熱、自動定時蒸餾、內(nèi)置壓縮機冷卻、氮吹控制、磁力攪拌、自動滴定、結果自動核算等多功能體化設計；
冷卻方式：主機內(nèi)置壓縮機冷卻循環(huán)系統(tǒng)，體化設計，非外接冷水機或自來水冷卻；
加熱方式：主機采用遠紅外陶瓷加熱裝置代替普通電熱爐或電熱套，節(jié)能，防水效果好耐酸堿腐蝕；
樣品數(shù)量：1-4位。加熱功率均可單孔單調(diào)；
加酸方式：密閉自動加酸，通過液晶觸摸屏，輕點屏幕即可自動完成加酸；
氮氣控制：主機內(nèi)置四路轉(zhuǎn)子流量計，流量控制范圍：60-600ml/min；
自動滴定：主機內(nèi)置滴定單元，蒸餾結束可自動滴定。
技術參數(shù)：
QYSO2-4Z國標二氧化硫殘留量測定儀由以下單元組成：四套加熱控制單元、一套內(nèi)置冷卻水自循環(huán)單元、四套氮氣流量自動控制單元、四組磁力攪拌控制單元、計時控制單元和滴定單元組成。
加熱方式：采用遠紅外陶瓷加熱爐，紅外線輻射加熱（無明火加熱、防水）
整機具有微沸和全沸調(diào)節(jié)，自動調(diào)節(jié)加熱功率，防止實驗過程中爆沸。
加熱單元：4個，可單孔單孔
升溫時間：5~8min
蒸餾速度：2~12ml/min（可調(diào)）
氮氣裝置：主機設有氮氣總接口，具有氮氣保護功能，可單孔控制氮氣流量（60~600ml/min），實驗結束，可自動關閉氮氣。
控制模式：可同時設置蒸餾時間，自動停止加熱，自動化程度高，無需人工看守。
單孔功率：0-500W（單爐、可調(diào)）
總 功 率：0-2500W（可調(diào)）
冷卻方式：封閉式內(nèi)循環(huán)回流系統(tǒng)，無需外接冷卻水源，內(nèi)置冷卻水箱，壓縮機制冷降溫內(nèi)循環(huán)系統(tǒng)，適合大批量工作，冷凝效果更佳。
時間控制：0-200min（可調(diào)），可通過設置蒸餾時間自動停止工作。一鍵式水箱加水，達到液位，蜂鳴報警，自動停止加水。
蒸餾瓶規(guī)格：1000mlX4
接收瓶規(guī)格：錐形瓶
磁力攪拌控制單元：
在每組蒸餾單元的接收區(qū)應設有獨立的內(nèi)置式磁力攪拌裝置，攪拌速度可通過增量式編碼器調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速。
滴定單元：主機應設有獨立的滴定蝴蝶夾，方便固定滴定管進行滴定。
計時控制單元：根據(jù)藥典方法每組蒸餾單元應設有獨立的計時控制裝置，可設定工作時間0-200min，工作時間設定好后自動倒計時，計時結束可自動斷電。
產(chǎn)品原理： 喬躍玻璃裝置二氧化硫殘留量測定儀主要由加熱模塊，蒸餾模塊，冷卻循環(huán)水模塊以及氮吹模塊組成。加熱模塊設置了高，中，低三檔加熱速率控制功能，可實現(xiàn)加熱效率的準確控制面板;蒸餾模塊選用高硼硅材料，耐熱性好，堅固耐用;冷卻水循環(huán)系統(tǒng)可選用外置冷卻水循環(huán)機（內(nèi)置可選），確保冷卻效果。氮吹模塊可外接氮氣發(fā)生器或氮氣鋼瓶，并配有高精度氣體流量計，嚴格控制氮吹速率