專為VUV 測量設(shè)計，整個系統(tǒng)處于真空狀態(tài)，無氧氣吸收。具備高度準(zhǔn)確性；*的超快測量速度；快速樣品室抽真空能力，方便快速更換樣品；氮氣消耗量少。

產(chǎn)品特點

• 50KHz 高頻PEM 相位調(diào)制技術(shù)

• 45 秒內(nèi)完成充氮氣

• 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空

• 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測量

• 兩種工作模式：氮氣清洗結(jié)合抽

• 真空、連續(xù)氮氣清洗

• 光譜范圍：147nm~850nm；147nm~2100nm

重點應(yīng)用領(lǐng)域

• 超薄膜

• 157nm 光刻新材料

• 有機(jī)材料、高分子材料

• 高k 材料：HfO₂、Al2O₃、TiO₂、HfxAlyOz

• 抗反射涂層

• 半導(dǎo)體和介電材料電子躍遷

• MgF₂、CaF₂、LaF₃