目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>沉積系統(tǒng)>> 批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備
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更新時(shí)間：2024-07-10 13:47:00瀏覽次數(shù)：629評(píng)價(jià)
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。
此系統(tǒng)為專對(duì)派瑞林(Parylene)所設(shè)計(jì)，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性，並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應(yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù)：
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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