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等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備

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產(chǎn)品型號(hào)PLASMA

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更新時(shí)間:2025-02-19 11:40:31瀏覽次數(shù):321次

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產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),印刷包裝,紡織皮革
專(zhuān)為半導(dǎo)體晶圓去膠和封裝預(yù)處理設(shè)計(jì)的等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備,清洗后無(wú)廢液,特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型均可處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時(shí)顆粒狀材料的等離子表面改性處理,包括:等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。為所處理的材料表面帶來(lái)潔凈、提高濕潤(rùn)性轉(zhuǎn)變,表面

專(zhuān)為半導(dǎo)體晶圓去膠和封裝預(yù)處理設(shè)計(jì)的等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導(dǎo)體器件,有效地去除表面的污垢和有機(jī)物,同時(shí)也能增強(qiáng)表面的附著力和表面能,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、微電子等領(lǐng)域。

等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備是無(wú)任何環(huán)境污染的新型剝離式清洗,優(yōu)點(diǎn)在于清洗后無(wú)廢液,等離子清洗機(jī)不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型均可處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時(shí)顆粒狀材料的等離子表面改性處理,包括:等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。等離子清洗機(jī)為所處理的材料表面帶來(lái)潔凈、提高濕潤(rùn)性轉(zhuǎn)變,表面性質(zhì)改變,提高結(jié)合力等處理效果。


我公司專(zhuān)為半導(dǎo)體封裝和組裝 (ASPA)、晶圓級(jí)封裝 (WLP) 和微機(jī)電 (MEMS) 組裝的需求而設(shè)計(jì)等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備。等離子處理設(shè)備可以改善或克服許多制造挑戰(zhàn),包括改善芯片附著、增加引線(xiàn)鍵合強(qiáng)度、消除倒裝芯片底部填充空隙以及減少封裝分層。

芯片貼裝 - 基板通過(guò)等離子清洗和表面活化提高芯片貼裝環(huán)氧樹(shù)脂的附著力,從而改善芯片和基板之間的粘合。更好的鍵合可改善散熱。

引線(xiàn)鍵合 - 在引線(xiàn)鍵合之前對(duì)焊盤(pán)采用等離子清洗機(jī)提高鍵合強(qiáng)度。

底部填充 - 底部填充工藝之前采用 等離子清洗機(jī)處理提高底部填充芯吸速度、增加圓角高度和均勻性、減少空洞并提高底部填充粘合力。

封裝和成型 - 等離子清洗機(jī)通過(guò)增加基材表面能來(lái)提高成型化合物的附著力,改進(jìn)的粘合增加了封裝的可靠性。

MEMS - 加速度計(jì)、翻滾傳感器和氣囊展開(kāi)傳感器等 MEMS 器件在制造過(guò)程中采用等離子清洗機(jī)提高器件產(chǎn)量和長(zhǎng)期可靠性。

等離子清洗機(jī)活化:大幅提高表面的浸潤(rùn)性能,形成活性的表面 ;清潔:去除灰塵和油污,精細(xì)清洗和去靜電 ;涂層: 通過(guò)表面涂層處理,提供功能性的表面 ;提高表面的附著能力,提高表面粘接的可靠性和持久性。

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采用等離子清洗機(jī)處理后,無(wú)論是各類(lèi)高分子塑膠、陶瓷、玻璃、PVC、紙張還是金屬等材料都能獲得表面能的提高。通過(guò)這樣的處理工藝,制品材料表面張力特性的改善提升,更能適合工業(yè)方面的涂覆、粘接等處理要求。如電子產(chǎn)品中,LCD屏的涂覆處理、機(jī)殼及按鍵鈕等結(jié)構(gòu)件的表面噴油絲印、PCB表面的除膠除污清潔、鏡片膠水粘貼前的處理、電線(xiàn)、電纜噴碼前的處理…等等。汽車(chē)工業(yè)車(chē)燈罩、剎車(chē)片、車(chē)門(mén)密封膠條的粘貼前的處理;機(jī)械行業(yè)金屬零部件的細(xì)微無(wú)害清潔處理,鏡片鍍涂前的處理,各種工業(yè)材料之間接合密封前的處理…等等







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