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GDR系列低溫等離子表面處理設備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行抽真空達到30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質第四態(tài)），其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

小型等離子清洗設備優(yōu)點：

• 表面清潔 (Plasma Cleaning)
• 表面活化 (Plasma Activation)
• 表面蝕刻 (Plasma Etching)

• 表面鈍化 (Plasma

• 小型等離子清洗設備適用于PCB 制造、半導體/LED制造、TSP/OLED 設備、真空等離子噴涂系統(tǒng)。涂層 (Plasma Coating)

科研用小型真空等離子清洗機廣泛應用于：1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合； 3. 等離子蝕刻/活化；4. 等離子去膠；  5. 等離子涂鍍(親水,疏水)； 6. 增強邦定性；7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。  小型等離子清洗機比超聲波更環(huán)保更高等級的清洗機（處理機），不需要清洗劑，對環(huán)境沒有任何污染，使用成本低廉，能提高產品檔次，提高產品質量，解決行業(yè)技術難題。

本公司不僅提供標準的等離子清洗機，且可根據用戶的需求進行不同的定制設計從而滿足客戶特定的生產環(huán)境和處理工藝需求。目前等離子表面處理設備廣泛應用于等離子清洗，等離子表面活化，表面改性，等離子刻蝕等