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詳細(xì)介紹
EIGER X混合像素光子計(jì)數(shù)X射線探測(cè)器?
1、產(chǎn)品特點(diǎn)：
我們一直持續(xù)致力于不斷的探索研究去突破技術(shù)壁壘，以獲得更為高效的測(cè)試過程及測(cè)試裝置，使測(cè)試性能趨于完整。目前我們?cè)谕絻x器及科學(xué)研究領(lǐng)域所取得的巨大成就已充分證明了這一點(diǎn)。
新型的EIGER X 系列探測(cè)器可以為要求極為苛刻的同步應(yīng)用提供的探測(cè)性能。具有連續(xù)讀數(shù)能力的千赫茲幀速率的成像能力為時(shí)分類實(shí)驗(yàn)和XPCS提供了一種全新的手段，使得像ptychography類的慢速掃描成像技術(shù)成為可能。高分辨率和連續(xù)的衍射實(shí)驗(yàn)受益于較小的成像尺寸，通過X射線的直接轉(zhuǎn)換可以獲得的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)。在理想情況下每單元面積的計(jì)數(shù)速率可以與持續(xù)增加的波速線亮度相匹配。
2、核心優(yōu)勢(shì)：
- 混合成像計(jì)數(shù)：?jiǎn)喂庾映上裼?jì)數(shù)模式下的X射線直接轉(zhuǎn)換能力
- 千赫幀速率工作周期> 99%
- 3μs時(shí)間下的連續(xù)采集模式
- 5μm像素尺寸的高空間分辨率
- 良好的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)
- 計(jì)數(shù)器每平方毫米每秒5億張
- 無讀出噪聲和暗電流
- 極其緊湊的外殼
3、應(yīng)用領(lǐng)域：
-X射線光子相關(guān)光譜(XPCS)
- Ptychography(疊層衍射)成像技術(shù)
- 時(shí)間分辨實(shí)驗(yàn)
- 大分子晶體學(xué)(MX)
- 單晶衍射(SCD)
- 粉末衍射(PD)
- 表面衍射
- 小廣角/X光散射(粉煤灰/蠟)
- X射線成像
4、技術(shù)參數(shù)：EIGER X混合像素光子計(jì)數(shù)X射線探測(cè)器
| EIGER X | 500K | 1M | 4M | 9M | 16M |
| 探測(cè)器模塊數(shù)量 | 1 | 1 x 2 | 2 x 4 | 3 x 6 | 4 x 8 |
| 有效面積：寬x高 [mm2] | 77.2 x 38.6 | 77.2 X 79.9 | 155.2 x 162.5 | 233.2 x 245.2 | 311.2 x 327.8 |
| 像素大小 [μm2] | 75 x 75 | ||||
| 總像素?cái)?shù)量 | 1030x514= 529,420 | 1030x1065= 1,096,950 | 2070 x 2167= 4,485,690 | 3110 x 3269= 10,166,590 | 4150X4371= 18,139,650 |
| 間隙寬度, 水平/垂直（像素） | -/- | -/37 | 10 / 37 | 10 / 37 | 10 / 37 |
| 非靈敏區(qū) [ % ] | 0 | 3.5 | 5.6 | 6.3 | 6.6 |
| 缺陷像素 | <0.03% | ||||
| 大幀頻* [Hz] | 3000,4500**,9000** | 3000 | 750 | 238 | 133 |
| 計(jì)數(shù)器深度 [ bit ] | 12, 8, 4 | 12 | 12 | 12 | 12 |
| 讀出時(shí)間 | 連續(xù)讀數(shù)，3μs死區(qū)時(shí)間，工作循環(huán)>99%*** | ||||
| 點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) | 1 pixel | ||||
| 探測(cè)器厚度 [μm] | 450 | ||||
| 閾值能量 [keV] | 2.7-18 | ||||
| 大計(jì)數(shù)率 [phts/s/mm2] | 5•108 | ||||
| 動(dòng)態(tài)范圍 [bit] | 16 或32 | ||||
| 數(shù)據(jù)格式 | HDF5 / NeXus | ||||
| 尺寸（WHD）[mm3] | 114 x 92 x 242 | 114 x 133 x 240 | 235 x 237 x 372 | 340 x 370 x 500 | 400 x 430 x 500 |
| 重量 [kg] | 3.3 | 3.9 | 15 | 41 | 55 |
| 功耗 [w] | 70 | 75 | 300 | 750 | 1200 |
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