產(chǎn)品簡(jiǎn)介
提供多種材料的制備, 如石墨、氟化鋰晶體系列、鍺和硅等;同時(shí)致力于開(kāi)發(fā)多種 結(jié)構(gòu)的構(gòu)型,包括約翰型、約翰森、對(duì)數(shù)螺線、橢球和 Von Hamos等。
北京泰坤工業(yè)設(shè)備有限公司 |
—— 銷售熱線 ——
13691111138 |
北京泰坤工業(yè)設(shè)備有限公司開(kāi)發(fā)各類型X射線衍射彎晶。提供多種材料的彎晶制備, 如石墨、氟化鋰晶體系列、鍺和硅等;同時(shí)致力于開(kāi)發(fā)多種 結(jié)構(gòu)的彎晶構(gòu)型,包括約翰型、約翰森、對(duì)數(shù)螺線、橢球和 Von Hamos等。
彎晶廣泛應(yīng)用于單色X射線熒光激發(fā)、同時(shí)多道型波長(zhǎng)色 散X射線熒光光譜儀、雙彎晶X射線熒光測(cè)量、以及彎晶譜 儀和中子衍射等領(lǐng)域。
北京泰坤的服務(wù)范圍涵蓋了彎晶的設(shè)計(jì)、制作和測(cè)試, 并提供一站式的彎晶套裝解決方案。
彎晶的設(shè)計(jì)原理基于布拉格衍射定律,即當(dāng)入射X射線與晶體晶格相互作用時(shí),會(huì)發(fā)生衍射現(xiàn)象。通過(guò)合理選擇材料和彎晶的形狀,能夠精確控制X射線的衍射效應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)X射線的單色反射聚焦。由 于X射線對(duì)所有物質(zhì)的折射率接近為1,衍射是極少數(shù)能改變X射線傳播方向的方案之一,使得彎晶成為 重要的X射線光學(xué)器件。雙曲結(jié)構(gòu)的彎晶還可以實(shí)現(xiàn)單色X射線的點(diǎn)對(duì)點(diǎn)聚焦。
北京泰坤進(jìn)行了大量的對(duì)比測(cè)試,對(duì)各種彎晶材料進(jìn)行了全面的研究,總結(jié)出相應(yīng)的的性能特點(diǎn),可以為客戶提供優(yōu)化設(shè)計(jì)的支持。彎晶
石墨 | LiF200、LiF220及LiF420 |
Ge(111) |
Si(111) | |
反射率 |
+++ |
++ |
+ |
- |
穩(wěn)定性 |
+++ |
+ |
++ |
++ |
導(dǎo)熱性 |
+++ |
+ |
++ |
+ |
北京泰坤可以提供多種構(gòu)型的彎晶,并對(duì)各種彎晶構(gòu)型做了詳細(xì)測(cè)試,綜合出各構(gòu)型差異。
還可承接橢球和Von Hamos等構(gòu)型彎晶的設(shè)計(jì)、制作與集成業(yè)務(wù)。彎晶
1.彎晶是X射線熒光光譜(XRF)分析的重要發(fā)展方向。北京泰坤生產(chǎn)的彎晶可用于Cr靶、Rh靶、Ag靶以及Ce靶光管的單色特征X射線點(diǎn)對(duì)點(diǎn)聚焦。通過(guò)彎晶的應(yīng)用,XRF能夠在激發(fā)端有效降低熒光背景,檢出限相比傳統(tǒng)能譜方案降低一個(gè)數(shù)量級(jí),如硫的檢出限可達(dá)到1ppm以下,符合ASTM D7220標(biāo)準(zhǔn)。
2.發(fā)射端采用彎晶單色聚焦,部分重元素的檢出限降低至0.04ppm水平。
3.當(dāng)激發(fā)和發(fā)射端同時(shí)采用彎晶時(shí),檢出限相比傳統(tǒng)能譜測(cè)量方案可降低1-2個(gè)數(shù)量級(jí),測(cè)硫方案符合ASTM 7039標(biāo)準(zhǔn);部分元素的檢出限可達(dá)到ICP-OES檢測(cè)水準(zhǔn)。
4.彎晶在同步輻射光源、加速器和重離子檢測(cè)等領(lǐng)域的X射線精細(xì)光譜分析中具有重要應(yīng)用價(jià)值,還可以應(yīng)用于中子衍射領(lǐng)域。
5.北京泰坤提供完整的彎晶套件服務(wù),將設(shè)計(jì)、制作和調(diào)試打包成一體,為客戶提供一站式的解決方案??蛻糁恍杼峁┕夤芎吞綔y(cè)器,即可開(kāi)始工作。
我們致力于為客戶提供高質(zhì)量的服務(wù)和支持,保證客戶能夠充分利用彎晶技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。