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當前位置：上海添時科學(xué)儀器有限公司>>制膜設(shè)備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：<2KW（不含真空泵） 3、極限真空度：9.0×10-4Pa 4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：2個（可選配其他數(shù)量） 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源） 9、載樣臺：Ø140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 10、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 11、工作氣體：Ar等惰性氣體 12、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm | |
| 標準配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)1套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套 4分子泵（德國進口）1臺 5冷水機1臺 6冷卻水管（Ø6mm）4根 | |
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | |
