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熱電廠化水處理中混床的再生操作

閱讀:3001        發(fā)布時(shí)間:2015/6/10
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熱電廠化水處理中混床的再生操作:

1、反洗分層。
    水力反洗,開始時(shí)流速宜小,待樹脂層松動(dòng)后逐漸加大流速至10m/h,使整個(gè)樹脂層的膨脹率在50%左右后,讓樹脂沉降下來,陽離子樹脂密度大,沉于下面,陰樹脂密度小,浮于上面。反洗時(shí)間一般15-20min,反洗時(shí)注意不要跑樹脂。反洗結(jié)束后,關(guān)閉反洗水入口閥,排水閥。
可能會(huì)出現(xiàn)的問題:分層不明顯。
采取方法:加NaOH.反洗完畢后,待樹脂落實(shí)下來;保持樹脂層上部有200mm-300mm厚的水層。開啟堿抽子向混床內(nèi)注入少量(如200L)的堿,注堿濃度為1.5%-2.0%。注堿完畢后,關(guān)閉正洗排水閥,靜置10min,以使泡堿反應(yīng)時(shí)間較為充分,靜置完畢,開始反洗分層。
注堿作用:1)消除陰陽樹脂間靜電引力,解決“抱團(tuán)".2)使陰樹脂盡可能地轉(zhuǎn)變?yōu)镺H型;使陽離子轉(zhuǎn)變?yōu)镹a型,增加密度差,強(qiáng)化分層。
2、再生
1)陽樹脂再生。
開啟酸抽子入口水閥,調(diào)整進(jìn)水流速5m/h,開啟堿抽子入口水閥維持頂壓水,流速約5m/h(頂壓水的作用是防止酸液上流,污染陰離子樹脂),用中間排水閥調(diào)整樹脂上部水位200-300mm。開啟進(jìn)酸閥,調(diào)整再生酸濃度2-3%,注酸再生。
2)陰離子樹脂再生。
待酸打完后,關(guān)閉酸濃度調(diào)整閥。此時(shí)酸抽子不停,繼續(xù)用除鹽水沖洗陽離子樹脂。開啟進(jìn)堿閥,調(diào)節(jié)堿再生濃度1.0-1.5%。混床的再生劑量,一般陽離子樹脂采用理論量的2倍;陰離子樹脂采用理論量的3倍,采用體外再生時(shí),比耗稍低。
3)對流沖洗。
待注堿完畢后,繼續(xù)用除鹽水從上下兩個(gè)部分進(jìn)入混床,對混床樹脂進(jìn)行沖洗。
沖洗終點(diǎn):從中間排水取樣化驗(yàn),硬度為0umol/L, HSiO3離子小于50mg/L時(shí),停止對流沖洗,關(guān)閉有關(guān)閥門。
3、混脂。
混脂時(shí)壓縮風(fēng)力為0.1-0.15MP,混脂時(shí)間為3-5分鐘,基本混勻后,快開正洗排水閥,快關(guān)進(jìn)氣閥,目的是使樹脂快速沉降,均勻混合。
4、正洗。
混合后的樹脂層以10-15m/h的流速通水進(jìn)行正洗。正洗終點(diǎn)以正洗排水中HSiO3離子小于20ug/L,電導(dǎo)率低于0.2us/cm為好。
補(bǔ)充:
1)在化水處理中,混床的一般運(yùn)行流速為40m/h左右
2)根據(jù)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),當(dāng)混床出水電導(dǎo)率大于0.2us/cm時(shí),或其出水HSiO3離子大于20ug/L時(shí),停止運(yùn)行
3)混床樹脂的裝填高度一般為:強(qiáng)酸陽樹脂0.6m高,強(qiáng)堿陰樹脂1.2m高
4)混床樹脂 陽:陰 體積比 1:2 。好處:交換容量相近,終點(diǎn)明顯。

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