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貨物所在地:江蘇無(wú)錫市
所在地: 美國(guó)
更新時(shí)間:2024-10-29 21:00:08
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極紫外 (EUV) 球面反射鏡
超拋光基片上的鉬/硅多層鍍膜
13.5nm 下可實(shí)現(xiàn)的大反射
設(shè)計(jì)用于 EUV 光束聚焦應(yīng)用
適用于 HHG 應(yīng)用的窄通帶
極紫外 (EUV) 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設(shè)計(jì),并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可大程度地降低散射。這對(duì) EUV 波長(zhǎng)*,因?yàn)?EUV 波長(zhǎng)的散射比長(zhǎng)波長(zhǎng)更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會(huì)在高諧波生成 (HHG) 應(yīng)用中反射 13.5nm 的關(guān)注諧波。EUV 球面反射鏡的典型應(yīng)用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.
注意:
每個(gè)反射鏡均附運(yùn)行樣本的測(cè)試數(shù)據(jù).
極紫外 (EUV) 球面反射鏡產(chǎn)品信息
DWL (nm) | Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂層 | 涂層規(guī)格 | 產(chǎn)品編碼 |
13.5 | 25.40 | 250.00 | Mo/Si Multilayer Layer: Silicon | Rabs>60% @ 13.5nm | #11-730 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)