Lucite-1000 哈氏槽

是標準的1000mL哈氏槽，不含加熱、控溫、打氣功能。

技術資料（Technical data）：

Lucite-1000 哈氏槽適用于除鍍鉻外所有不需要對電鍍液加熱控溫的電鍍實驗。  

哈氏槽：英文：Hull Cell；又名：霍爾槽，候氏槽，霍氏槽，赫爾槽

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哈氏槽測試設備

1935年，E.I.杜邦公司要求Kocour公司制造一種在實驗室開發(fā)的電鍍測試槽。該槽被稱為哈氏槽，是一種用于生產陰極沉積物的微型電鍍單元，該陰極沉積物記錄了在操作范圍內所有電流密度下的電鍍特性。它是電鍍化學家用來控制電鍍浴的較有用的工具之一。它是標準分析方法必須準確的附件，使熟練的操作員能夠確定和控制添加劑、雜質和純化處理對電鍍電解液的影響，其中許多是無法通過其他方法確定的。實際上，每一種電鍍溶液都可以通過使用哈氏槽進行不同程度的控制或評估。請參閱以下特點。Kocour公司提供全套哈氏槽、配件和相關設備，使電鍍商能夠有效地使用這種電鍍過程控制方法。

產品特點：
☆黃銅
色彩控制
游離氰基化合物控制
光亮劑控制
☆鎘
光亮劑控制
檢測有機雜質
檢測碳酸鹽堆積
無機雜質的控制 - 尤其是鉛，鉻，錫和銅
☆鉻
杰出的控制催化劑比
檢測氯離子和金屬污染
☆銅
游離氰基化合物含量
鉛，鋅，鉻污染
碳酸鹽添加劑
☆金
色彩控制
添加劑
☆鎳
初次和二次添加劑
點蝕
有機分解物
銅，鋅，鉻或鐵雜質
pH值脆性
☆銀
游離氰基化合物和銀含量
操作pH值
添加劑
☆錫
腐蝕內容
添加劑
☆鋅
NaCl與鋅金屬之比
鋅含量
銅，鉛，鎘和錫雜質
純化處理效果
添加劑