隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是不會缺少的工藝，清洗對產(chǎn)品的質量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。如何保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率，且同時保證生產(chǎn)的安全性及生產(chǎn)過程中對環(huán)境的保護?那么，對使用者來說選擇高潔凈度，且又具有安全、環(huán)保性能的清洗設備尤為重要，在以往的清洗技術(化學清洗和物理清洗)中，很難達到要求。那在又安全又環(huán)保的前提下，如何*清除物體表面的污物?目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有機溶劑造成的污染，同時能夠將清洗過程縮短。 紫外臭氧清洗機是一種采用無接觸方式，在空氣中進行且在清洗后不必進行干燥。在清洗過程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)，氣相物質被吸附在固體表面，被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子，產(chǎn)物分子解析形成氣相，反應殘余物脫離表面。
10
立即詢價
您提交后，專屬客服將第一時間為您服務