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美國HST-質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)
  • 美國HST-質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)
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貨物所在地:北京北京市

地: 美國HST

更新時間:2025-01-21 21:00:07

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MALDI質(zhì)譜成像技術已成為生物標志物研究、醫(yī)學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質(zhì)噴涂技術可大大提高MALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發(fā)的μMatrix(矩陣觀察)質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)是質(zhì)譜組織成像領域內(nèi)一款新型的基質(zhì)制備設備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產(chǎn)生高重現(xiàn)性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領域,該系統(tǒng)也可以制備均質(zhì)的酶消化樣本。

MALDI質(zhì)譜成像技術已成為生物標志物研究、醫(yī)學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質(zhì)噴涂技術可大大提高MALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發(fā)的μMatrix(矩陣觀察)質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)是質(zhì)譜組織成像領域內(nèi)一款新型的基質(zhì)制備設備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產(chǎn)生高重現(xiàn)性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領域,該系統(tǒng)也可以制備均質(zhì)的酶消化樣本。與市場上傳統(tǒng)的納升級噴霧系統(tǒng)不同,此微噴霧系統(tǒng)采用全新的精細霧點控制模塊,*在細微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質(zhì)。也可將胰蛋白酶直接噴灑在組織表面,進行表面蛋白質(zhì)原位酶解,不但能看到目標蛋白質(zhì)的分布,而且能通過質(zhì)譜儀直接分析蛋白酶。

μMatrix Spotter產(chǎn)品優(yōu)勢

胰蛋白酶溶液和優(yōu)化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質(zhì)譜成像實驗。

μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質(zhì)打印區(qū)域,從而盡量減少基質(zhì)溶液的使用。

通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實現(xiàn)打印區(qū)域基質(zhì)的*性。

MALDI MS成像的組織提取物可實現(xiàn)少量重復打印控制。重復數(shù)量和干燥時間可根據(jù)個個實驗的目的進行優(yōu)化控制。

可同時打印4個氧化銦錫載玻片。

技術指標

應用精度:±50μm;

噴霧分辨率:5760*1440dpi;

樣品槽:支持6個樣品瓶位;

噴霧速度:大約30秒 (在5×5cm2區(qū)域上);

自動應用控制器:定量重復噴霧;

板支架:384孔格式板,銦錫導電載玻片(ITO slide glass);

加熱板:溫度范圍20-50℃;

壓電式噴霧單元:3 PL/zui少。

性能

 精確性和均一性

圖片15.png

 μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區(qū)域繪制成微斑點的矩陣陣列。

 

操作簡單

其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質(zhì)的數(shù)量、斑點面積以及位置。

圖片16.png

可重現(xiàn)性

通過使用pL-級壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質(zhì)溶液的高還原性斑點,如HCCA (L) 和 DHB (R)。

圖片17.png

■應用:MS成像

截圖20180110205811.jpg

 

乳腺癌組織的胰蛋白酶消解

 

使用μMatrix Spotter對進行胰蛋白酶消解后的乳腺癌組織MALDI-TOF MS。質(zhì)譜成像顯示肽m/z 1213和1396的分布;肽m/z 1213通過MS/MS分析被識別為人類Igα-2鏈。

 

發(fā)芽馬鈴薯毒素成像

圖片18.png

使用μMatrix Spotter顯示50通道DHB馬鈴薯芽切片成像。

截圖20180110205900.jpg

截圖20180110205911.jpg 

 

產(chǎn)品應用于蛋白質(zhì)組學研究,MALDI-TOF MS和表面科學等領域。制造成本低,為MALDI-TOF MS提供更簡化、更*的實驗用具。

專業(yè)的質(zhì)譜載樣臺

疏水性和親水性結(jié)構(gòu)設計

基質(zhì)噴霧細而均勻

基質(zhì)用量少

一次性使用

圖片19.png

μ陣列質(zhì)譜載樣臺

均勻密點陣列→HTS專有

μ焦點技術→高靈敏性

一次性使用

高成像性

圖片20.png

氧化銦錫涂層質(zhì)譜載玻片

經(jīng)濟性,高成像性

穩(wěn)定的氧化銦錫涂層

25 x75mm, I型或II型

厚度0.7 mm和1.1mm

圖片21.png

 

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