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手持式漆膜測(cè)厚儀價(jià)格MC-2010A高精度涂層測(cè)厚儀

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更新時(shí)間:2016-04-28 09:27:49瀏覽次數(shù):569

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手持式漆膜測(cè)厚儀價(jià)格MC-2010A高精度涂層測(cè)厚儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介

MC-2010A型涂(鍍)層測(cè)厚儀是*的結(jié)晶。涂層測(cè)厚儀采用單片機(jī)技術(shù),測(cè)量精度高、數(shù)字顯示、操作簡(jiǎn)單方便、觸摸按鍵、內(nèi)置探頭全量程測(cè)量、體積小、重量輕; 強(qiáng)大的抗*力,求值更穩(wěn)定;且具有低電壓指示、統(tǒng)計(jì)、系統(tǒng)/零點(diǎn)/兩點(diǎn)校準(zhǔn)功能,其性能已達(dá)到當(dāng)代同類儀器的*水平。

詳細(xì)介紹

手持式漆膜測(cè)厚儀價(jià)格MC-2010A高精度涂層測(cè)厚儀別名

MC-2010A涂層測(cè)厚儀,MC-2010A電鍍層測(cè)厚儀,MC-2010A漆膜測(cè)厚儀,MC-2010A數(shù)顯涂層測(cè)厚儀,MC-2010A高精度涂層測(cè)厚儀,MC-2010A磁性法涂層測(cè)厚儀,MC-2010A漆膜厚度測(cè)量?jī)x,MC-2010A油漆厚度測(cè)量?jī)x,MC-2010A鍍鉻層厚度測(cè)量?jī)x

手持式漆膜測(cè)厚儀價(jià)格MC-2010A高精度涂層測(cè)厚儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介

MC-2010A型涂(鍍)層測(cè)厚儀是*的結(jié)晶。涂層測(cè)厚儀采用單片機(jī)技術(shù),測(cè)量精度高、數(shù)字顯示、操作簡(jiǎn)單方便、觸摸按鍵、內(nèi)置探頭全量程測(cè)量、體積小、重量輕; 強(qiáng)大的抗*力,求值更穩(wěn)定;且具有低電壓指示、統(tǒng)計(jì)、系統(tǒng)/零點(diǎn)/兩點(diǎn)校準(zhǔn)功能,其性能已達(dá)到當(dāng)代同類儀器的*水平。 MC-2010A涂層測(cè)厚儀是一款經(jīng)濟(jì)型通用涂層測(cè)厚儀,其產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)為:性能與進(jìn)口測(cè)厚儀性能一樣好,操作簡(jiǎn)單,測(cè)試速度快,靈敏度好,測(cè)量精度高。

 

   MC-2010A涂層測(cè)厚儀可應(yīng)用在無(wú)損、快速和高精度涂鍍層測(cè)厚領(lǐng)域。它是油漆、防腐蝕、電鍍、汽車工業(yè)、輪船運(yùn)輸、飛機(jī)制造等相關(guān)行業(yè)理想的輔助制造生產(chǎn)工具。它可以穩(wěn)定地工作于實(shí)驗(yàn)室,車間現(xiàn)場(chǎng)和戶外。

 

   我公司具有20年的測(cè)厚儀專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),力求給您zui的品質(zhì)體驗(yàn)。MC-2010A涂層測(cè)厚儀為內(nèi)置測(cè)量探頭,該涂層探頭的探點(diǎn)加入一種PIONEO超硬涂層,用于強(qiáng)化表面,其厚度僅為1毫米的千分之幾,但卻有超乎想象的高強(qiáng)硬度和高耐磨性。這種全新的深層技術(shù)已經(jīng)嵌入到部件中,其測(cè)量誤差、耐磨性比其它同類儀器又提高了一個(gè)檔次。

 

MC-2010A型涂層測(cè)厚儀工作原理

MC-2010A型涂(鍍)層測(cè)厚儀采用電磁感應(yīng)法測(cè)量涂(鍍)層的厚度。位于部件表面的探頭產(chǎn)生一個(gè)閉合的磁回路,隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變,該磁回路將不同程度的改變,引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測(cè)量探頭與鐵磁性材料間的距離,即涂(鍍)層厚度。

MC-2010A型涂鍍層測(cè)厚儀應(yīng)用范圍

本儀器采用磁性測(cè)厚法,可以方便無(wú)損地測(cè)量鐵磁材料上非磁性涂層的厚度,如鋼鐵表面上的鋅、銅、鉻等鍍層或油漆、搪瓷、玻璃鋼、噴塑、瀝青等涂層的厚度。該儀器廣泛應(yīng)用于機(jī)械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。

 

二、MC-2010A型涂鍍層測(cè)厚儀產(chǎn)品性能

MC-2010A型涂鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)

1、測(cè)量范圍:0~1200um

2、測(cè)量誤差:<3%±1um

3、zui小示值:1um

  • 4、顯示方式: 4位液晶數(shù)字顯示

5、主要功能:

   (1).測(cè)量:內(nèi)置探頭全量程測(cè)厚

   (2).統(tǒng)計(jì):設(shè)有三個(gè)統(tǒng)計(jì)量:平均值、zui大值、zui小值

   (3).校準(zhǔn):可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)、兩點(diǎn)校準(zhǔn)及系統(tǒng)校準(zhǔn)

   (4).電量:具有欠壓顯示功能

   (5).蜂鳴提示:操作過(guò)程中有蜂鳴提示

   (6).關(guān)機(jī):具有自動(dòng)關(guān)機(jī)和手動(dòng)關(guān)機(jī)兩種方式

6、電源:  兩節(jié)1.5v電池

7、功耗:  zui大功耗90mw

8、外形尺寸:112mm*44mm*25mm

9、重量:    100g(含電池)

10、使用環(huán)境溫度: 0℃~+40℃  相對(duì)濕度:不大于90%

11、基體zui小厚度: 0.5mm

12、基體zui小平面的直徑: 7mm

13、zui小曲率半徑: 凸:1.5mm      凹:6mm

14、欠電壓指示:   右上角顯示""

*臨界厚度值:工件鐵基厚度大于1mm時(shí),其涂(鍍)層厚度的測(cè)量不受鐵基厚度影響。

、MC-2010A漆膜厚度測(cè)量?jī)x電鍍層測(cè)厚儀配置單

 1、涂層測(cè)厚儀MC-2010A                  一臺(tái)

 2、1.5v電池 (7號(hào))                      二節(jié)

 3、標(biāo)準(zhǔn)樣片              一盒

 4、標(biāo)準(zhǔn)鐵基                            一塊

 5、小鋁箱                              一個(gè)

 6、說(shuō)明書、合格證                      一套 

影響測(cè)量準(zhǔn)確度的因素有以下幾種:

a 基體金屬磁性質(zhì)

磁性法測(cè)厚受基體金屬磁性變化的影響(在實(shí)際應(yīng)用中,低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的),為了避免熱處理和冷加工因素的影響,應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn);亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)。

b 基體金屬電性質(zhì)

基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)測(cè)量有影響,而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

c 基體金屬厚度

每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度,測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見附表1。

d 邊緣效應(yīng)

本儀器對(duì)試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測(cè)量是不可靠的。

e 曲率

試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此,在彎曲試件的表面上測(cè)量是不可靠的。

f 試件的變形

測(cè)頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形,因此在這些試件上測(cè)出可靠的數(shù)據(jù)。

g 表面粗糙度

基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對(duì)測(cè)量有影響。粗糙程度增大,影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差,每次測(cè)量時(shí),在不同位置上應(yīng)增加測(cè)量的次數(shù),以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙,還必須在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn);或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后,再校對(duì)儀器的零點(diǎn)。

g 磁場(chǎng)

周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng),會(huì)嚴(yán)重地干擾磁性法測(cè)厚工作。

h 附著物質(zhì)

本儀器對(duì)那些妨礙測(cè)頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感,因此,必須清除附著物質(zhì),以保證儀器測(cè)頭和被測(cè)試件表面直接接觸。

測(cè)頭壓力

測(cè)頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響測(cè)量的讀數(shù),因此,要保持壓力恒定。

 測(cè)頭的取向

測(cè)頭的放置方式對(duì)測(cè)量有影響。在測(cè)量中,應(yīng)當(dāng)使測(cè)頭與試樣表面保持垂直。

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