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用途：低溫恒溫槽廣泛應(yīng)用于石油.化工，電子儀表，物理，化學(xué)，生物工程，醫(yī)藥衛(wèi)生，生命科學(xué)，輕工食品物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時(shí)提供一個(gè)冷熱受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，對(duì)實(shí)驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度實(shí)驗(yàn)或測(cè)試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

● 大屏幕液晶顯示，軟件程序控制，可編輯時(shí)間/溫度曲線。
● 多段可編溫度 、時(shí)間程序 ，控制升溫 、 恒溫、降溫過程，且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設(shè)置自動(dòng)控制。
● zui多編寫儲(chǔ)存30個(gè)溫度/時(shí)間段，每個(gè)程序可設(shè)置0～9999分鐘運(yùn)行時(shí)間。
● 多種參數(shù)設(shè)定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵，設(shè)定溫度/時(shí)間段及其他高級(jí)控制參數(shù)或直接調(diào)儲(chǔ)存的溫度/時(shí)間設(shè)定程序。
● 采用全封閉高效壓縮機(jī)制冷。
注：特別適用于晶體層析變化過程研究，肉眼通過正、側(cè)2面觀察時(shí)刻變化。