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當(dāng)前位置：> 供求商機(jī)> 亞科-Electron Beam Lithography System（EBL）
超高分辨率電子束光刻EBL
系列采用專業(yè)的恒溫控制系統(tǒng)，使得整個(gè)主系統(tǒng)的溫度保持恒定，再加上主系統(tǒng)內(nèi)部精密傳感裝置，使得電子束電流穩(wěn)定性，電子束定位穩(wěn)定性，電子束電流分布均一性都得到了的提高，其性能指標(biāo)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其它廠家的同類產(chǎn)品，在長(zhǎng)達(dá) 5 小時(shí)的時(shí)間內(nèi)，電子束電流和電子束定位非常穩(wěn)定，電子束電流分布也非常均一。
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是好的方法之一。司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統(tǒng)。
超高分辨率的電子束光刻系列的型號(hào)包括：
技術(shù)參數(shù)：
加速電壓：高130keV
單段加速能力達(dá)到130keV，盡量減少電子槍的長(zhǎng)度
超短電子槍長(zhǎng)度，無微放電
電子束直徑＜1.6nm
小線寬＜7nm
雙熱控制，實(shí)現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力
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