RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus

多功能電子束曝光系統(tǒng)

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)

超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)

納米加工領(lǐng)域的瑞士

多用途的納米光刻系統(tǒng)

eLINE Plus被廣泛用于大學(xué)和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對(duì)電子束光刻機(jī)多功能性的要求。

除具有專業(yè)的電子束光刻及成像功能，eLINE Plus還完美集成了納米操縱設(shè)備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導(dǎo)過(guò)程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件，這使得eLINE Plus成為世界上*的、用途廣泛的電子束光刻系統(tǒng)。

納米工程、納米操縱，及聚焦電子束誘導(dǎo)過(guò)程

• 先進(jìn)的熱場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)柱，可得到的小束斑尺寸
• 開(kāi)放的可升級(jí)的平臺(tái)理念
• 廣泛的納米加工工藝
• 多種探測(cè)器，可靈活地實(shí)現(xiàn)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記識(shí)別、成像，及材料分析方面的應(yīng)用
• *的無(wú)寫場(chǎng)拼接的直寫模式（traxx /periodixx）
• Raith NanoSuite軟件: 集所有模塊于一體的綜合軟件界面

可擴(kuò)展的科研工具理念

eLINE Plus具有模塊可擴(kuò)展的科研工具理念，用戶可任意時(shí)間升級(jí)各種模塊，使該系統(tǒng)適用于納米研究中熱門的研究方向。eLINE Plus從傳統(tǒng)的電子束應(yīng)用領(lǐng)域，擴(kuò)展成為多功能的系統(tǒng)，打開(kāi)了跨學(xué)科研究的大門。

eLINE Plus具有的小束斑尺寸（1.6nm）,在前沿的高分辨納米加工中，不論是納米曝光還是其他聚焦電子束誘導(dǎo)過(guò)程中都展現(xiàn)出的優(yōu)異性能。

eLINE Plus 納米曝光應(yīng)用

• HSQ膠上制作亞5nm線條

• 高密度器件：1kB交叉型阻變式存儲(chǔ)器

• 通過(guò)鉆蝕工藝獲得光子晶體隔膜器件
• 金屬橫向自旋閥

• 納米光柵實(shí)現(xiàn)的神經(jīng)突導(dǎo)航功能

eLINE Plus 納米工程應(yīng)用

• 采用電子束誘導(dǎo)沉積功能生長(zhǎng)金電極，在金電極上沉積懸空的Pt納米線，并采用探針進(jìn)行納米線探測(cè)

• 電子束誘導(dǎo)沉積結(jié)構(gòu)，采用輪廓儀探針進(jìn)行材料生長(zhǎng)速率的測(cè)量

• 電子束誘導(dǎo)沉積生長(zhǎng)三維納米結(jié)構(gòu)
• 采用能量選擇inLens背散射電子探測(cè)器探測(cè)材料對(duì)比度

eLINE Plus 產(chǎn)品詳情