GDZT-5-200-20 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。  
GDZT-5-200-20 高低溫循環(huán)裝置特點(diǎn)：  
●分3個(gè)系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)，三個(gè)系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用。  
●快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。  
●溫度控制范圍寬，全程不需要換導(dǎo)熱介質(zhì)，導(dǎo)熱介質(zhì)消耗少。  
●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時(shí)導(dǎo)熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長(zhǎng)導(dǎo)熱流體的使用壽命。  
●高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。  
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。  
●液位顯示功能，隨時(shí)監(jiān)控液位，避免缺液。  
●高溫切斷、急停、延時(shí)、漏電、過流電、過熱等多重保護(hù)功能，充分保證使用安全。  
●冷凝、預(yù)熱方式為風(fēng)冷，節(jié)約水資源。  
典型應(yīng)用：  
●化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層反應(yīng)釜的溫度控制。  
●攪拌罐的溫度控制。  
●高壓反應(yīng)釜的溫度控制。  
●材料測(cè)試中的應(yīng)用。  
●微反應(yīng)器技術(shù)領(lǐng)域的放大工藝過程的溫度控制。  
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。  
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。  
●大型恒溫控制系統(tǒng)。  
●小型恒溫控制系統(tǒng)。  
●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。  
●汽車工藝中熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。  
●真空室的溫度控制。  
技術(shù)參數(shù)：