目錄:合肥恩派爾貿(mào)易有限公司>>Abnbio感受態(tài)細(xì)胞>>酵母 感受態(tài)細(xì)胞>> Y2HGoldChemically 酵母感受態(tài)細(xì)胞
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更新時(shí)間：2024-03-27 15:58:34瀏覽次數(shù)：323評(píng)價(jià)
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| 供貨周期 | 現(xiàn)貨 | 規(guī)格 | 50支100ul |
|---|---|---|---|
| 貨號(hào) | ABG701-50 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥 |
| 主要用途 | 細(xì)胞培養(yǎng) |
Y2HGold Chemically Competent Cell 酵母感受態(tài)細(xì)胞
基因型：
=MATa, trp1-901, leu2-3, 112, ura3-52, his3-200, gal4Δ,gal80Δ,LYS2 : : GAL1UAS–Gal1TATA–His3,GAL2UAS–Gal2TATA–Ade2 URA3 : : MEL1UAS–Mel1TATA AUR1-C MEL1
簡(jiǎn)要說(shuō)明：
Y2HGold菌株是GAL4系統(tǒng)酵母雙雜實(shí)驗(yàn)用菌株，MATa型，可直接轉(zhuǎn)化質(zhì)?；蚺cMATα型酵母菌株Y187通過(guò)mating操作進(jìn)行蛋白互作驗(yàn)證或篩庫(kù)試驗(yàn)。Y2HGold有四個(gè)報(bào)告基因：AbAr，HIS3，ADE2，MEL1，分別由三種不同的啟動(dòng)子 (G1，G2，M1)啟動(dòng)，這三種啟動(dòng)子只有GAL4識(shí)別的17 bp核心區(qū)相同，其余部分均不同，大大降低了酵母雙雜假陽(yáng)性發(fā)生的概率。此外新報(bào)告基因AbAr與以前的營(yíng)養(yǎng)缺陷報(bào)告基因相比具有更低背景的優(yōu)點(diǎn)，也可以降低酵母雙雜假陽(yáng)性發(fā)生的概率。Y2HGold感受態(tài)細(xì)胞經(jīng)特殊工藝制作，pGADT7質(zhì)粒檢測(cè)轉(zhuǎn)化效率>104cfu/μg DNA。
操作說(shuō)明：
1. 取pBait-AbAi質(zhì)粒5µg，BstBI或 BbsI酶切1h，回收；
2. 取一支無(wú)菌的1.5ml EP管，依次加入預(yù)冷的預(yù)冷的線性pBait-AbAi質(zhì)粒1-5 µg（體積不高于15 µl），Carrier DNA(95-100 度5min 快速冰浴，重復(fù)一次)10µl，100µl冰上融化的Y1HGold感受態(tài)細(xì)胞，PEG/LiAc 500µl，輕輕翻轉(zhuǎn)混勻6-8次；
3. 30℃水浴30min，每10min輕輕翻轉(zhuǎn)混勻6-8次；
4. 每支加入20µl的二甲基亞砜（用以提高轉(zhuǎn)化效率，可不做）；
5. 42℃水浴15min，每5min輕輕翻轉(zhuǎn)混勻6-8次；
6. 12000rpm瞬時(shí)離心棄上清，每支加入1ml的YPD Plus（YPDA）于30℃復(fù)蘇1h（用以提高轉(zhuǎn)化效率，可不做）；
7. 12000rpm瞬時(shí)離心棄上清，用100µl 0.9% NaCl重懸，涂板，30℃培養(yǎng)48-96h。
注意事項(xiàng)：
1.PEG在低溫下易析出，請(qǐng)?jiān)诔叵聎an全溶解后使用。
2.轉(zhuǎn)化高濃度的質(zhì)粒可相應(yīng)減少最終用于涂板的菌量。
3.同時(shí)轉(zhuǎn)化2-3種質(zhì)粒時(shí)可增加質(zhì)粒的用量。
4.Y1HGold酵母菌株對(duì)高溫敏感，最適生長(zhǎng)溫度為27-30℃；高于31℃，生長(zhǎng)速度和轉(zhuǎn)化效率呈指數(shù)下降。
5.菌落變粉不是污染，是酵母細(xì)胞生長(zhǎng)中一個(gè)常見現(xiàn)象。當(dāng)細(xì)胞在平板培養(yǎng)幾天后，平板上的Adenine被酵母消耗完畢，酵母試圖通過(guò)自身代謝途徑合成Adenine以供利用，然而，Y1HGold的ADE2基因被破壞，Adenine合成途徑受阻；又由于其ADE4,5,6,7,8基因均正常，所以造成中間產(chǎn)物P-ribosylaminoimidazole（AIR）在細(xì)胞中積累而使菌落變?yōu)榉奂t色。
6.酵母在缺陷培養(yǎng)基中生長(zhǎng)速度比YPDA培養(yǎng)基慢，培養(yǎng)基中缺陷成分越多，生長(zhǎng)越慢，以轉(zhuǎn)化涂板為例：涂YPDA平板29℃，48h培養(yǎng)可見直徑1mm克隆；涂SD單缺平板29℃，48-60h培養(yǎng)可見直徑1mm克隆，涂SD雙缺平板29℃，60-80h培養(yǎng)可見直徑1mm克隆，涂SD三缺或四缺平板平板29℃，80-90h培養(yǎng)可見直徑1mm克隆。
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