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與傳統(tǒng)的旋涂相比，采用超聲波噴涂的光刻膠涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優(yōu)勢，特別是沿著高縱橫比溝槽和 V 形槽結(jié)構(gòu)的側(cè)壁頂部，離心旋轉(zhuǎn)無法沉積均勻的涂層沿側(cè)壁涂膜，而不會(huì)在空腔底部沉積過多的光刻膠。

超聲波噴涂是光刻晶圓加工中光刻膠涂層的一種簡單、經(jīng)濟(jì)且可重復(fù)的工藝。FUNSONIC的超聲波霧化鍍膜系統(tǒng)使用先進(jìn)的分層技術(shù)可以精細(xì)控制流速、鍍膜速度和沉積量。低速噴霧成型將霧化噴霧定義為精確、可控的圖案，避免過度噴涂，同時(shí)產(chǎn)生非常薄、均勻的層。使用超聲波技術(shù)的直接噴涂被證明是將光刻膠沉積到3D微結(jié)構(gòu)上的可靠且有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于蝕刻劑而導(dǎo)致的設(shè)備故障。

超聲波噴頭在光刻膠涂層工藝中的優(yōu)勢：

• 各種表面輪廓的均勻薄膜覆蓋。

• 能夠以出色的均勻性涂覆高縱橫比的溝槽。

• 無堵塞霧化噴霧。

• 能夠沉積高度均勻的單微米薄層。

• 可重復(fù)的成熟噴涂工藝。