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珀金埃爾默ICPMS的干擾類型與消除技術(shù)
閱讀：885 發(fā)布時(shí)間：2019-1-28| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 3.9MB |
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來自樣品溶液或珀金埃爾默ICP中的其他物質(zhì)可能在進(jìn)樣系統(tǒng)、ICP離子源、接口、四級(jí)桿質(zhì)譜等環(huán)節(jié)對(duì)待測(cè)離子的測(cè)定結(jié)果產(chǎn)生影響，造成檢測(cè)結(jié)果的失真。
• 進(jìn)樣系統(tǒng)：物理干擾。樣品溶液因比重、粘度不同造成進(jìn)樣效率不同。
• ICP離子源：化學(xué)與電離干擾。樣品基體與待測(cè)組分形成穩(wěn)定化合物，或基體組
分電離影響ICP中的電子密度，影響待測(cè)組分的離子產(chǎn)率。
• 接口：空間電荷效應(yīng)（質(zhì)量歧視）。樣品中基體組分電離形成的大量離子把
待測(cè)離子推開導(dǎo)致待測(cè)離子傳輸效率變化。
• 四級(jí)桿：質(zhì)譜干擾。相同質(zhì)荷比的其他離子影響待測(cè)離子的測(cè)定。
• 其中前三項(xiàng)可以統(tǒng)稱為非質(zhì)譜干擾（基體效應(yīng)）