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PHI Versaprobe 4 X射線光電子能譜儀

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更新時間:2024-12-24 09:42:35瀏覽次數:1416

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!

產品簡介

價格區(qū)間 150萬-200萬 儀器種類 進口
應用領域 綜合    
The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微區(qū)光譜,化學成像,二次電子成像,具有離子與電子雙中和系統(tǒng),以及可以在極低電壓也可工作的高效能離子槍,UPS適用于表面狀態(tài)分析,能獲得能帶結構。

詳細介紹

XPS 作為一種重要的表面分析方法,廣泛應用于固體材料表面的元素組分和化學態(tài)的研究,例如電池材料,催化劑,集成電路,半導體,金屬,聚合物,陶瓷和玻璃等,可滿足從研發(fā)到失效分析的廣泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新設計的高靈敏分析器,靈敏度是上一代的2倍,具有更低的檢測限,能夠實現從微區(qū)到大面積的高靈敏度化學分析。微聚焦掃描X射線和SXI影像,通過類似SEM的SXI影響可以作為樣品導航,實現100%精準地定義微區(qū)分析位置


PHI Versaprobe 4 X射線光電子能譜儀應用范圍:

包括表面的元素與化學態(tài)分析(氫和氦除外)。

表面物種的化學狀態(tài)的識別,包括有機和無機材料,導體和絕緣體。

深入薄膜中的組成元素分布概況,包括半導體、薄膜結構,磁介質薄膜,光學鍍膜,裝飾涂料,和耐磨涂層。

在必須避免會對電子束技術有破壞性效果時的樣品成分分析。

 

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