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? CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷（注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離）
? 用于氧化化合物和溶劑的分析
? Z高溫度： 300 °C

Rt^®-Q-BOND熔融石英PLOT柱

* 二乙烯基苯

·非極性 PLOT柱報告*二乙烯基苯。

·非常適合分析C1 到C3的同分異構(gòu)體和直到C12的烷類

· CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷（注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離）

·用于氧化化合物和溶劑的分析

·zui高溫度： 300 °C

類似固定相:Supel-Q-PLOT, AT-Q, CP-PoraPLOT Q, PoraBond Q

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描述：

Restek的化學(xué)家開發(fā)了一種新的多孔聚合物PLOT柱制造工藝。這種工藝包括將微粒吸附在柱壁上，所以幾乎沒有微粒的脫離現(xiàn)象。因?yàn)檫@種微粒與柱壁的吸附作用，使柱與柱在選擇和流失保持可重復(fù)性。

·非極性 PLOT柱報告*二乙烯基苯。

·非常適合分析C1 到C3的同分異構(gòu)體和直到C12的烷類

· CO2 高保留性簡化了氣體分析；從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷（注意：在室溫下O2/N2/CO不能被分離）

·用于氧化化合物和溶劑的分析

·zui高溫度： 300 °C

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