目錄:鄭州科探儀器設備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> 磁控濺射儀
| 靶材材質 | 詳詢 | 靶材尺寸 | 詳詢mm |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 面議 |
| 濺射氣體 | 詳詢 | 控制方式 | 詳詢 |
| 樣品倉尺寸 | 詳詢mm | 樣品臺尺寸 | 詳詢mm |
| 應用領域 | 電子 |
KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
目前公司已研發(fā)生產產品十多個系列幾十款產品，產品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機 小型離子濺射儀 磁控濺射儀 石英管真空封口 半導體檢測等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。
公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴謹?shù)募夹g研發(fā)能力，科學合理的生產工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 40KHz濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
大功率 | ≤1000W |
大輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
極限真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （大可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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