目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> 單靶磁控濺射儀
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更新時(shí)間：2024-03-27 15:05:08瀏覽次數(shù)：3061評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí)，配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。
單靶磁控濺射儀 主要特點(diǎn)：
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛
體積小，操作簡(jiǎn)便
真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ，控制電源為分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買需求。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍
磁控濺射頭：
儀器中安裝有3個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
設(shè)備包含一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻
載樣臺(tái)：
載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)
載樣臺(tái)高可加熱溫度
真空腔體：
真空腔體：采用不銹鋼制作
觀察窗口：
腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi)，使得換靶更加容易
薄膜測(cè)厚：
一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝 在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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