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艾因蒂克科技(上海)有限公司
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v|tome|x-微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測 CT檢測服務(wù) 工業(yè)CT
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貨物所在地:上海上海市

地: 德國

更新時間:2025-02-06 21:00:21

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隨著制造業(yè)日益復(fù)雜,微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測 CT檢測服務(wù) 工業(yè)CT 等自動化成為標(biāo)準(zhǔn),兼顧精度和效率的檢測呈現(xiàn)的比以往任何時候都更加重要。GE專注于變革無損檢測領(lǐng)域中的3D檢測和尺寸控制,致力于實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、高效的檢測目標(biāo)。

微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測 CT檢測服務(wù) 工業(yè)CT

 

隨著制造業(yè)日益復(fù)雜,微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測 CT檢測服務(wù) 工業(yè)CT自動化成為標(biāo)準(zhǔn),兼顧精度和效率的檢測呈現(xiàn)的比以往任何時候都更加重要。GE專注于變革無損檢測領(lǐng)域中的3D檢測和尺寸控制,致力于實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、高效的檢測目標(biāo)。

通過將工業(yè)CT技術(shù)應(yīng)用于滿足工業(yè)需求,并將其與強(qiáng)大的X射線技術(shù)、自動化機(jī)械手、全自動軟件和GE  CT技術(shù)相結(jié)合,我們已經(jīng)研發(fā)出一系列高精度CT產(chǎn)品,在保證質(zhì)量的檢測下,檢測時間由幾個小時縮短到幾分鐘。

全新phoenix v|tome|x m 將這項(xiàng)變革向前推進(jìn)了一大步,可以為你提供通用、精確的微焦點(diǎn)CT系統(tǒng),用于無損檢測、3D尺寸測量和分析。這種高生產(chǎn)率的系統(tǒng),可以在高速的檢測速度下,獲得更高的精度,極大優(yōu)化你的實(shí)驗(yàn)、測試過程,滿足現(xiàn)如今日益增長的需求。

 

相同圖像質(zhì)量下,有效節(jié)約掃描時間

v|tome|x m是*可以搭載GE突破性的散射線校正技術(shù)、dynam ic41數(shù)字化探測器 和高通量鎢靶的微焦點(diǎn)工業(yè)CT系統(tǒng),使得掃描速度更快或圖像質(zhì)量更高,并真正革新了檢測方法。

 

提供多種配置和可選項(xiàng),幫助您在高度準(zhǔn)確的前提下,提高生產(chǎn)率,例如ruby|plate(紅寶石標(biāo)準(zhǔn)件) 和 true|position(機(jī)械軸精準(zhǔn)定位)可用于提高測量精度、流程化操作, helix|CT(螺旋CT)可用于提高圖像質(zhì)量,簡單、高效地提高樣品檢測率。

 

1. scatter|correct 技術(shù)

有效減少散射線偽影,相比同等效果的傳統(tǒng)扇束速度提高近100倍。

掃描時間從60分鐘減少至6分鐘

2. dynamic 41 數(shù)字平板探測器相同速度下分辨率提高一倍,或與200μm DXR探測器相同質(zhì)量下,檢測效率提高一倍。

掃描時間從6分鐘減少至3分鐘

3. high-flux|target高通量靶

提高微米CT檢測效率,或者在更小的焦點(diǎn)尺寸下,實(shí)現(xiàn)更高的功率進(jìn)而獲得近乎2倍的圖像質(zhì)量。

3分鐘減少至1.5分鐘

4. helix|CT 螺旋CT

采用螺旋CT提升圖像質(zhì)量,在高效、易操作的前提下,提高檢測概率。

5. offset|CT 偏置CT

在原有基礎(chǔ)上,增加*的檢測范圍。

6. 全自動機(jī)器人

很大程度地提高檢測速度和準(zhǔn)確性,極大節(jié)約運(yùn)行成本。

7. phoenix datos|x CT軟件

圖像采集、數(shù)據(jù)處理、樣品評估全自動化進(jìn)行。

 

 

微焦點(diǎn)工業(yè)CT主要參數(shù)

 

phoenix v|tome|x s phoenix v|tome|x m

射線管類型

開放式設(shè)計(jì),反射式高功率微焦點(diǎn)X射線源,配置封閉式水冷系統(tǒng)。

選配投射式高功率納米焦點(diǎn)射線源(開放式設(shè)計(jì))

大電壓 / 功率

240 kV/ 320 W

300 kV/ 500 W.

240 kV/ 320 W (選配)

選配納米CT的雙源設(shè)計(jì)®: 180 kV / 20 W 配置鉆石靶的高功率納米焦點(diǎn)射線源 | 高精度氣浮轉(zhuǎn)臺| 雙源一鍵式切換系統(tǒng)

幾何放大倍率 (3D)

1.46 倍至100 倍; 選配納米射線源后增大至200 倍

1.3 倍至100 倍; 選配納米射線源后增大至200 倍

細(xì)節(jié)檢測能力

< 1 μm (微米焦點(diǎn)射線源); 0.2 μm (選配納米焦點(diǎn)射線源)

小體素尺寸

2 μm(微焦點(diǎn))

2 μm (微焦點(diǎn)), 1 μm(選配dyn. 41|100)

<1 μm(選配納米焦點(diǎn)射線源)

<0.5 μm (納米射線源 + dyn. 41|100)

測量精度

參考VDI 2630聲明精度

4+L/100μm參考VDI 2630-1.3

探測器類型

(依據(jù)ASTM E2597 標(biāo)

準(zhǔn))

溫度穩(wěn)定型GE DXR平板探測器, 200 μm像素尺寸, 1,000 x 1,000 像素?cái)?shù)量, 200 x 200 mm (8”), 支持2倍虛擬放大

溫度穩(wěn)定型GE dynamic 41|200平板探測器, 410 x 410 mm (16” x 16”), 200 μm像素尺寸, 2036 x 2036

像素?cái)?shù)量 (4 MP), 高動態(tài)范圍 > 10000:1

選配 400 x 400 mm (16”) , 4 MPixel DXR 探測器

(無2倍虛擬放大)

選配GE dynamic 41|100 探測器, 410 x 410 mm (16” x 16”), 100 μm 像素尺寸, 4048 x 4048 像素?cái)?shù)量

(16 MP),分辨率提高2倍

機(jī)械系統(tǒng)

5軸高精度機(jī)械系統(tǒng),

*設(shè)計(jì)優(yōu)化穩(wěn)定性

大理石基座的4軸機(jī)械系統(tǒng)

焦距

800 mm (8”探測器) | 930 mm (16” 探測器)

800 mm

大樣品直徑 x 高度

大3D掃描尺寸 260 mm Ø x 420 mm, 大

400 mm Ø 選配offset|CT和 8” 探測器

360 mm x 600 mm; 限制移動范圍500 x 600 mm ,

大3D 掃描范圍 420 mm Ø x 400 mm

大樣品重量

10 kg (22 lbs.)

50 kg (110 lbs.), 高精度CT:20 kg (44 lbs.)

大物距

545 mm(微焦點(diǎn))

600 mm (微焦點(diǎn))

系統(tǒng)尺寸 W x H x D

2,170 mm x 1,690 mm x 1,500 mm (85.4” x 66.5” 59” )

2,620 mm x 2,060 mm x 1,570 mm (103” x 81” x

62”); D 2,980 mm (117.3”)包含控制面板和發(fā)生器

系統(tǒng)重量

約2,900 kg /6,400 lbs. (不含附件)

約7,960 kg /17,550 lbs. (不含附件)

溫度穩(wěn)定性

射線源冷卻系統(tǒng)| 溫度穩(wěn)定型探測器

射線源冷卻系統(tǒng)|溫度穩(wěn)定型探測器|溫度穩(wěn)定型鉛

選配scatter|correct 硬件及軟件模塊 (可升級)

 

小化散射線偽影,達(dá)到線陣列同等水平圖像質(zhì)量;大掃描直徑: 260 mm, 幾何放大倍率1,51

倍 - 100倍

選配高通量靶

檢測效率提高2倍或檢測效果提高2倍; 射線源功率為100 W

選配2D 檢測模塊

配置傾斜軸,檢測樣品重量10 kg (22 lbs.) | 2D 檢測軟件+ datos|x CT軟件

選配測量版本 (可升級)

 

2 標(biāo)準(zhǔn)件

可選多標(biāo)準(zhǔn)件

 

 

選配螺旋CT & 擴(kuò)展CT

采用高級掃描模式,提升掃描范圍和圖像質(zhì)量,螺旋CT:用于長樣品掃描,并有效減少偽影;擴(kuò)展CT:可   以掃描更大尺寸的樣品,或者獲得更高的分辨率

選配 click&measure|CT

用于全自動數(shù)據(jù)處理

已包含

選配 production|edition

 

根據(jù)需求配置全自動機(jī)器人

軟件

phoenix datos|x 3D圖像采集和數(shù)據(jù)重建軟件,擁有不同的3D軟件包,用于尺寸測量、失效分析和結(jié)構(gòu)檢

測。

輻射安全防護(hù)

全封閉式自屏蔽防護(hù)鉛房,類型滿足德國RöV,適用于法國NFC 74 100 和美國21 CFR ,當(dāng)?shù)胤ㄒ?guī)要求的其他許可。

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