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數(shù)字微流控芯片
  • 數(shù)字微流控芯片
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貨物所在地:廣東深圳市

地: 廣東深圳

更新時間:2024-10-28 21:00:07

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高精密3D打印系統(tǒng)采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術(shù)和數(shù)字微流控芯片。擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚,具備優(yōu)良的光源穩(wěn)定性,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

一、產(chǎn)品介紹

nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統(tǒng)采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術(shù)和數(shù)字微流控芯片。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。

nanoArch P150是科研級3D打印系統(tǒng),擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚,具備優(yōu)良的光源穩(wěn)定性,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

二、nanoArchR P150 25μm高精密3D打印系統(tǒng)系統(tǒng)性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學(xué)精度

25μm

XY打印精度

50~200μm

打印層厚

10~50μm

打印樣品尺寸

48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

打印文件格式

STL(單材)

系統(tǒng)外形尺寸

530mm(L)×540mm(W)×700mm(H)

重量

300kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,2KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設(shè)備功率

2000W

三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料類型

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA、數(shù)字微流控芯片等。

個性化

高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。

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