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Nicomp Z3000 Zeta-ZETA電位分析儀
  • Nicomp Z3000 Zeta-ZETA電位分析儀
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貨物所在地:上海上海市

地: 美國(guó)

更新時(shí)間:2024-06-25 21:00:19

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ZETA電位分析儀工作原理:
粒度檢測(cè): 動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)
Zeta電位檢測(cè):帶相位分析的多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering with Phase analyze, DELS with PALS)

ZETA電位分析儀簡(jiǎn)介:

Nicomp Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號(hào)380ZLS基礎(chǔ)上升級(jí)配套而來,采用動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測(cè)分析顆粒的粒度分布,粒徑檢測(cè)范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和擁有*技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有*優(yōu)勢(shì)。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)


1、高靈敏度PMT檢測(cè)器;

2、可搭配不同功率光源;

3、準(zhǔn)確度高,接近樣品真實(shí)值;

4、可測(cè)試水相及有機(jī)相樣品的粒度及Zeta電位;

5、快速檢測(cè),可以追溯歷史數(shù)據(jù);

6、結(jié)果數(shù)據(jù)以多種形式和格式呈現(xiàn);

7、符合USP,CP等個(gè)多藥典要求;

8、無需校準(zhǔn);

9、復(fù)合型算法:

(1)高斯(Gaussion)正態(tài)粒度分布與*的Nicomp多峰分布算法自由切換

(2)頻率(Frequency)Zeta電位分析法與*的相位(Phase)分析法自由切換

10、模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí);

(1)可自動(dòng)稀釋模塊(選配);

(2)自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)(選配);

(3)搭配多角度檢測(cè)器(選配);



Nicomp多峰分布概念


基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所*的兩個(gè)主要特點(diǎn),Nicomp創(chuàng)始人Dave Nicole很早就認(rèn)識(shí)到傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布,這和實(shí)踐生產(chǎn)生活中不相符,因?yàn)楝F(xiàn)實(shí)中很多樣本是多分散體系,非單分散體系,而且高斯分布靈敏性不足,分辨率不高,這些特點(diǎn)都制約了納米粒度儀在實(shí)際生產(chǎn)生活中的使用。其開創(chuàng)性的開創(chuàng)了Nicomp多峰分布理論,大大提高了動(dòng)態(tài)光散射理論的分辨率和靈敏性。


Nicomp多峰分布優(yōu)勢(shì)


Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統(tǒng)的DLS系統(tǒng)的結(jié)果,更可以通過Nicomp多峰分布模式體現(xiàn)樣品的準(zhǔn)確情況。依托于Nicomp系列儀器一系列優(yōu)異的算法和高靈敏性的硬件設(shè)計(jì),Nicomp納米激光粒度儀可以有效區(qū)分1:2的多分散體系。

ZETA電位分析儀優(yōu)勢(shì):

模塊化設(shè)計(jì)

Nicomp Z3000納米激光粒度儀是全*在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的先進(jìn)粒度儀。隨著模塊的升級(jí)和增加,Nicomp 的功能體系越來越強(qiáng)大,可以用于各種復(fù)雜體系的檢測(cè)分析。


選配 21CFR Part 11法規(guī)軟件——符合cGMP要求

Nicomp系列儀器全系配備了符合美國(guó)聯(lián)邦法規(guī)21章第11款(21 CFR PART11)要求的軟件。具有數(shù)據(jù)自動(dòng)備份,審計(jì)追蹤,權(quán)限分級(jí),電子簽名,可連接Lims系統(tǒng)等多項(xiàng)功能。

中國(guó)食品藥品監(jiān)督管理局(NMPA)有政策趨勢(shì)將對(duì)醫(yī)藥研發(fā)企業(yè)實(shí)施規(guī)范的GLP 管理。使用符合21 CFR PART 11法規(guī)的軟件更能符合現(xiàn)在GLP/GMP的要求。




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