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磁控離子濺射儀主要應(yīng)用在哪些領(lǐng)域呢?

閱讀:1199      發(fā)布時(shí)間:2022-7-4
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  磁控濺射是物理氣相沉積的一種。實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。其在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
  磁控離子濺射儀主要應(yīng)用在哪些領(lǐng)域呢?
  1、在光學(xué)領(lǐng)域:中頻閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)也應(yīng)用于光學(xué)薄膜(如減反射膜)、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃。
  2、在裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,如各種全反射膜和半透明膜,如手機(jī)外殼、鼠標(biāo)等。
  3、作為一種非熱涂層技術(shù),應(yīng)用于微電子領(lǐng)域。各種功能膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如,在低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
  化學(xué)氣相沉積(CVD)難以生長(zhǎng),不適合材料薄膜沉積,并且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
  5、在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池和記憶合金薄膜的研究中發(fā)揮著重要作用。
  6、在機(jī)械加工行業(yè),表面功能膜、超硬膜和自潤(rùn)滑膜的表面沉積技術(shù)自誕生以來取得了長(zhǎng)足進(jìn)步,可有效提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性,從而大大提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。

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