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目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 沈陽市
屬性

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更新時間:2024-02-27 09:54:40瀏覽次數(shù):2006評價

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 地礦
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。

產(chǎn)品名稱VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號
VTC-600-2HD
安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要
主要參數(shù)
1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:900W
3、腔體內(nèi)徑:?300mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源)
10、載樣臺:?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
12、工作氣體:Ar等惰性氣體
13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格

1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、真空室規(guī)格:φ300×300mm
4、重量:160kg


序號名稱數(shù)量圖片鏈接
1直流電源控制系統(tǒng)
1套
2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套-
3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
1套

-

4分子泵(德國進口或者國產(chǎn)更大抽速)
1臺-
5冷水機
1臺-
6聚酯PU管(?6mm)
4m-

序號
名稱
功能類別
圖片鏈接
1

金、銦、銀、鉑等各種靶材

(可選)
-
2可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜
(可選)
-
3

雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具

(可選)


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