目錄:沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)
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更新時(shí)間:2019-06-28 12:40:36瀏覽次數(shù):815評(píng)價(jià)
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電氣 |
產(chǎn)品名稱 | VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng) |
主要特點(diǎn) | 1、配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源通過轉(zhuǎn)換開關(guān)可以分別連接至任一靶頭,用于各類靶材的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換)。 2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。 3、體積小,操作簡(jiǎn)便。 4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍(選配)。 6、可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作,更換各類易氧化的靶材用于鍍膜實(shí)驗(yàn)。 |
技術(shù)參數(shù) | 三靶磁控濺射部分 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:2.5KW 3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司機(jī)械泵設(shè)備使用可達(dá)到 E-3mbar) 4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量:3個(gè) 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、射頻濺射功率:300W/500W(可選) 9、載樣臺(tái):Ø140mm 10、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 11、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體 12、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM 手套箱部分 1、電源:?jiǎn)蜗郃C110V-220V 50Hz/60Hz 2、殼體材料:304不銹鋼 3、手套箱腔體:1220mm×760mm×900mm 4、前級(jí)室:設(shè)有2個(gè)前級(jí)室,大前級(jí)室Ø360mm×600mm,小前級(jí)室Ø150mm×300mm 5、腔體環(huán)境:水含量<1ppm(20℃,1atm),氧含量<1ppm(20℃,1atm) 6、工作氣體:N2、Ar、He等惰性氣體 7、控制氣體:壓縮空氣或惰性氣體 8、還原氣體:工作氣體和H2的混合氣(如果凈化系統(tǒng)只有除水功能,還原氣體與工作氣體相同) 9、氣體凈化系統(tǒng):德國(guó)BASF除氧材料、美國(guó)UOP高效吸水材料,凈化系統(tǒng)再生過程自動(dòng)控制,自動(dòng)除水、 除氧功能,可長(zhǎng)期、持續(xù)維持氣體純度在水<1ppm、氧<1ppm 10、壓力控制系統(tǒng):腔體氣壓可通過PLC觸摸屏自動(dòng)控制,控制精度為±1Pa,也可通過腳踏開關(guān)進(jìn)行手動(dòng)控制 11、過濾系統(tǒng):進(jìn)、出氣端都裝有過濾器,過濾精度為0.3μm 12、控制系統(tǒng):SIEMENS彩色觸摸屏(6寸),PLC控制系統(tǒng),中英文雙語(yǔ)可切換;
水探頭采用美國(guó)GE品牌,0-1000ppm觸摸屏顯示,精度0.1ppm; 氧變送器采用美國(guó)AII品牌,0-1000ppm觸摸屏顯示,精度0.1ppm; 壓力傳感儀采用美國(guó)setra品牌,-2500-2500Pa觸摸屏顯示,精度±1Pa; 13、真空泵:采用英國(guó)EDWARDS品牌,抽速8.4m3/h-12m3/h 14、手套:美國(guó)NORTH品牌丁基合成橡膠 15、照明系統(tǒng):飛利浦品牌熒光燈管 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 三靶磁控濺射部分:500mm×560mm×660mm 手套箱部分:2300mm×1500mm×1900mm |
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