目錄:沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
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更新時(shí)間:2024-03-30 20:10:09瀏覽次數(shù):346評(píng)價(jià)
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個(gè)靶槍?zhuān)蛇x擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類(lèi)材料薄膜的理想設(shè)備。1、可選一個(gè)靶槍?zhuān)涮咨漕l電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡(jiǎn)便。
產(chǎn)品名稱(chēng) | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-1HD |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選) |
可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 |
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