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TFMS-LD-TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
  • TFMS-LD-TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
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貨物所在地:遼寧沈陽市

更新時(shí)間:2024-11-05 08:15:40

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TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度,其測量膜厚范圍為15nm-50um,儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率,并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧,方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。

產(chǎn)品型號

  TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

測量膜厚范圍

15nm-50um

光譜波長

400 nm - 1100 nm

主要測量透明或半透明薄膜厚度

  • 氧化物

  • 氮化物

  • 光刻膠

  • 半導(dǎo)體(硅,單晶硅,多晶硅等)

  • 半導(dǎo)體化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

  • 硬涂層(碳化硅,類金剛石炭)

  • 聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

  • 金屬膜

         

特點(diǎn)

  • 測量和數(shù)據(jù)分析同時(shí)進(jìn)行,可測量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜

  • 包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù),新材料參數(shù)也可很容易地添加,支持多重算法:

    Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

  • 體積較小,方便擺放和操作

  • 可測量薄膜厚度,材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度

  • 使用電腦操作,界面中點(diǎn)擊,即可進(jìn)行測量和分析

精度

0.01nm或0.01%

準(zhǔn)確度

0.2%或1nm

穩(wěn)定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

標(biāo)準(zhǔn)3mm,可以小至3um

要求樣品大小

大于1mm

分光儀/檢測器

400 - 1100 nm 波長范圍

光譜分辨率: < 1 nm

電源 100-250 VAC, 50/60 Hz 20W

 

光源

5W的鎢鹵素?zé)?/p>

色溫:2800K

使用壽命:1000小時(shí)

反射探針

光學(xué)纖維探針,400um纖維芯

配有分光儀和光源支架

載樣臺

測量時(shí)用于放置測量的樣品

 

通訊接口

USB接口,方便與電腦對接

 

TFCompanion軟件

強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫包含兩500多種材料的光學(xué)常數(shù)(n:折射率,K:消失系數(shù))

 

誤差分析和模擬系統(tǒng),保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準(zhǔn)確性

可分析簡單和復(fù)雜的膜系

 

 

設(shè)備尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg

 

 

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