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產品VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在*真空的狀態(tài)下進行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。簡介：VTC-200PV真空旋轉涂膜機工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節(jié)約材料。VTC-200PV真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
產品名稱 | VTC-200PV真空旋轉涂膜機 | ||
產品型號 | VTC-200PV | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有進出水口 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：不需要 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要 | ||
主要特點 | 1、設有12組程序，每組包含6個運行階段。 2、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。 3、真空度可以達到-0.08MPa。 4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。 5、根據樣件規(guī)格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。 6、電機啟動快速穩(wěn)定，可以保證涂層厚度的*性和均勻性。 7、本機可置于手套箱內使用，但控制部分與真空泵需置于箱外。 8、可在惰性氣體氣氛下圖層 9、可在真空狀態(tài)下圖層，在此狀態(tài)下圖層，需要粘接基片或夾持基片方可實現 | ||
技術參數 | 1、功率：350W 2、轉速：500rpm-6000rpm 3、時間：1s-60s 4、腔體真空度可達1Torr（VRD-16機械泵連續(xù)工作） | ||
產品規(guī)格 | 尺寸：Ø250mm×290mm；重量：25kg | ||
標準配件 | 1 | 真空吸盤 | 1個 |
2 | 夾持吸盤 | 1個 | |
3 | 無油真空泵 | 1臺 | |
可選配件 | VRD-16機械泵 | ||
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