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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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反應釜制冷加熱系統(tǒng),單流體系統(tǒng)

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號無錫冠亞

品       牌LNEYA/無錫冠亞

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-01-01 19:24:40瀏覽次數:570次

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產地類別 國產 價格區(qū)間 面議
應用領域 石油,電子,印刷包裝,汽車,電氣
反應釜制冷加熱系統(tǒng),單流體系統(tǒng)的典型應用:
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制;
微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試;
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

<strong><strong><strong><strong>反應釜溫控設備價格,溫控一體機價格</strong></strong></strong></strong>

 

適合化工、制藥、生化等低溫反應設備

全密閉管道式設計,高效板式熱交換器, 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制

 

型號SUNDI
-225
SUNDI
-225W
SUNDI
-235
SUNDI
-235W
SUNDI
-255
SUNDI
-255W
SUNDI
-275
SUNDI
-275W
SUNDI
-2A10
SUNDI
-2A10W
SUNDI
-2A15
SUNDI
-2A15W
SUNDI
-2A25
SUNDI
-2A25W
SUNDI
-2A38W
SUNDI
-2A60W
SUNDI
-2A95W
SUNDI
-2A130W
SUNDI
-2A200W
介質溫度
范圍
-25℃~+200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式
選擇
物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫
度反饋
PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質
溫控精度
±0.5℃ ±1℃
反應物料
溫控精度
±1℃±1.5℃ 
加熱功率
kW
2.53.55.57.5101525386095130200



kW
AT
2002.53.55.57.5101525386095130200
1002.53.55.57.5101525386095130200
502.53.55.57.5101525386095130200
202.53.55.57.5101525386095130200
-5234.56.68121930467080125
-2011.82.83.84.67121622324365
流量壓力
max 
L/min 
bar
2035355075110150200250400400600
22222.52.52.52.52.52.52.52.5
壓縮機三菱艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機意大利都凌半封閉活塞壓縮機
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)
系統(tǒng)
整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A
接口尺寸G1/2G3/4G3/4G1G1G1DN32DN40DN40DN50DN65N65
水冷型
AT 20度
1.5~4bar
600
L/H
800
L/H
1000
L/H
1200
L/H
1600
L/H
2200
L/H
6m³/H10m³/H14m³/H20m³/H28m³/H36m³/H
外型尺寸
(風) cm
45*85
*130
45*85
*130
55*100
*175
55*100
*175
70*100
*175
80*120
*185
100*150
*185
/////
外型尺寸
(水) cm
45*85
*130
45*85
*130
45*85
*130
45*85
*130
55*100
*175
55*100
*175
80*120
*185
100*150
*185
205*145
*205
205*145
*205
245*145
*2250
275*160
*225
隔爆尺寸 
cm
45*110
*130
45*110
*130
55*120
*170
55*120
*170
70*125
*175
80*145
*185
105*120
*185
105*120
*185
205*145
*205
205*145
*205
205*145
*205
275*160
*225
正壓尺寸
(水)cm
110*95
*195
110*95
*195
110*95
*195
110*95
*195
110*95
*195
135*145
*195
(135+
60)*145
*225
(135+
60)*145
*225
(185+
60)*145
*225
(185+
100)*145
*225
(185+
100)*145
*225
(185+
150)*165
*225
重量kg1151651852302803005507501000125015802150
電源 
380V 
50HZ
4kW6kW8kW11kW14kW21kW34kW52kW79kW123kW165kW260kW

 

反應釜制冷加熱系統(tǒng),單流體系統(tǒng)

反應釜制冷加熱系統(tǒng),單流體系統(tǒng)

  反應釜設備的安裝及使用細節(jié)介紹

  反應釜設備是通過油浴鍋(槽)注入恒溫的(高溫或低溫)熱溶液或冷卻液,對反應釜內的物料進行恒溫加熱或制冷,并且可以提供攪拌。此設備可以進行真空攪拌反應,蒸餾濃縮反應,分離萃取,反應發(fā)熱實驗,我們可以在油浴鍋中通過冷凝盤管通自來水從而達到迅速降溫的效果,物料在反應釜內進行反應,并能控制反應溶液的蒸發(fā)與回流,反應完畢,物料可從釜蓋開口或者釜底的下出料口放出,操作為方便。

  反應釜配套溫控系統(tǒng)應用

  1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。

  2、攪拌罐的溫度控制。

  3、材料測試中的應用。

  4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

  5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

  6、恒溫控制系統(tǒng)。

  7、半導體設備的溫度控制。

  8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

    9、真空室的溫度控制。

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