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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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加熱控制系統(tǒng)裝置-高溫循環(huán)裝置

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號SUNDI-175

品       牌LNEYA/無錫冠亞

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-01-03 11:37:59瀏覽次數:705次

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產地類別 國產 價格區(qū)間 5萬-10萬
應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航天
加熱控制系統(tǒng)裝置-高溫循環(huán)裝置5,全密閉的循環(huán)系統(tǒng)避免了高溫油霧異味和低溫吸收水分的情況,保障了工作環(huán)境不會有刺鼻氣味的產生,也避免了導熱介質吸收了水分后變粘稠黏附在反應釜壁后導致傳熱效果變差。

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

型號SUNDI-125
SUNDI-125W
SUNDI-135
SUNDI-135W
SUNDI-155
SUNDI-155W
SUNDI-175
SUNDI-175W
SUNDI-1A10
SUNDI-1A10W
SUNDI-1A15
SUNDI-1A15W
介質溫度范圍-10℃~+200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW2.53.55.57.51015
制冷量 kW at200℃2.53.55.57.51015
20℃2.53.55.57.51015
-5℃1.52.13.34.269
流量壓力 max
L/min bar
203535505075
222222.5
壓縮機三菱三菱艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G3/4G3/4G1G1G1
水冷型 W
溫度 20度
600L/H
1.5bar~4bar
800L/H
1.5bar~4bar
1000L/H
1.5bar~4bar
1200L/H
1.5bar~4bar
1600L/H
1.5bar~4bar
2000L/H
1.5bar~4bar
外型尺寸(水)cm45*65*12055*68*14555*68*14555*68*14555*100*17570*100*175
外形尺寸 (風)cm50*85*13055*100*17555*100*17555*100*17555*100*17570*100*175
隔爆尺寸(風) cm45*110*13045*110*13045*110*13055*120*17055*120*17055*120*170
正壓防爆(水)cm110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195120*110*195
常規(guī)重量kg115165185235280300
電源 380V 50HZAC 220V 50HZ 3.6kW5.6kW7.5kW10kW13kW20kW

 

 

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加熱控制系統(tǒng)裝置-高溫循環(huán)裝置

加熱控制系統(tǒng)裝置-高溫循環(huán)裝置

  在高低溫物理實驗中,溫度的測量是較基本的測量,與常溫下的溫度測量相比,加熱控制系統(tǒng)裝置高低溫系統(tǒng)中的要求更為嚴格。

  在常溫下一些不被重視的問題如引線漏熱、輻射熱、焦耳熱和接觸熱阻等,在高低溫下則變得重要起來。高低溫恒溫器在很多領域得到了廣泛的應用,它具有結構簡單、操作方便、運行和維護成本低的優(yōu)點。

  加熱控制系統(tǒng)裝置使用熱阻的方案可以有效抑制溫度波動,且恒溫器整體結構更簡單、操作更方便。其他各點處,溫度波動并不能得到很好的抑制。

  對加熱控制系統(tǒng)裝置中溫度的控制進行了實驗研究。通過PID控制的方法,控制樣品架上溫度的升降溫速率。采集了PID控制時樣品架上溫度波動的短期穩(wěn)定性和長期穩(wěn)定性數據。實驗結果顯示,受限于加熱控制系統(tǒng)裝置本身性能,恒溫器中存在一個較大降溫速率和一個較慢升溫速率。采用PID控制的方法可以很好的控制樣品架上勻速升降溫。

加熱控制系統(tǒng)裝置停開機實驗方案并進行簡單的前期實驗驗證。測量了連接部件之間總的接觸熱阻并進行分析。在加熱控制系統(tǒng)裝置停開機實驗中,加熱控制系統(tǒng)裝置停機之后,穩(wěn)定時間和控溫穩(wěn)定性符合實驗要求。

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