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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>制冷加熱循環(huán)機>> SUNDI-135W導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置

導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置

參   考   價: 150978

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號SUNDI-135W

品       牌冠亞制冷

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-07-25 11:51:18瀏覽次數:222次

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產地類別 國產 價格區(qū)間 10萬-20萬
應用領域 化工,生物產業(yè),石油,制藥,綜合
【無錫冠亞】導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

  在化學工業(yè)中,反應釜冷卻控溫設備廣泛應用于各種化學品的生產中。而在結晶過程中,反應釜冷卻控溫設備發(fā)揮著作用,它確保了結晶過程的順利進行,并直接影響到產品的質量和產量。

  一、反應釜冷卻控溫設備在結晶中的應用

  1、結晶過程需要在特定的溫度范圍內進行,以確保溶解度和晶體質量。反應釜冷卻控溫設備能夠實時監(jiān)測并控制反應釜內的溫度,確保其在預設范圍內波動,為結晶過程提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境。

  2、通過反應釜冷卻控溫設備控溫,反應釜冷卻控溫設備可以確保結晶過程的穩(wěn)定性,減少雜質和缺陷的產生,從而獲得更高質量的晶體產品。

  3、在反應釜冷卻控溫設備溫度控制下,結晶過程可以更加穩(wěn)定和有效地進行,減少生產周期,提高生產效率。

  二、反應釜冷卻控溫設備在結晶中的注意事項

  1、在選擇反應釜冷卻控溫設備時,需要根據實際反應釜的尺寸和參數進行選擇,以確保設備能夠滿足生產需求。

  2、反應釜冷卻控溫設備的安裝和連接需要按照說明書進行,確保各個組件的正確連接和運行。同時,需要避免過度發(fā)熱和結霜等問題,確保設備的安全運行。

  

  

導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置

導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置


導熱油加熱系統(tǒng) TCU制冷加熱循環(huán)裝置





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