場發(fā)射掃描電子顯微鏡是一種高分辨率、高性能的電子顯微鏡，具有超高分辨率和強大的圖像處理能力。它利用場發(fā)射電子槍產(chǎn)生電子束，通過電子束在樣品表面掃描，收集并處理二次電子信號，以獲取樣品表面的顯微圖像。
Apreo場發(fā)射掃描電子顯微鏡是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的平臺，而不會降低磁性樣品性能。傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 透鏡技術分為兩類：磁浸沒或靜電。FEI 將兩種技術結合到一個儀器中。這樣做所產(chǎn)生的成效遠遠超過任一種鏡筒的個體性能。兩種技術均使電子束形成細小探針，以提高低電壓下的分辨率，并使信號電子進入鏡筒。通過將磁透鏡和靜電透鏡組合成一個復合透鏡，不但提高了分辨率，還增加了*的信號過濾選項。靜電-磁復合末級透鏡在 1 kV 電壓下的分辨率為 1.0 nm(無電子束減速或單色器)。
Apreo 擁有透鏡內(nèi)背散射探測器 T1，其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號，從而確保在很短的時間內(nèi)采集數(shù)據(jù)。與其他背散射探測器不同，這種快速的探測器始終可保證良好的材料對比度，在導航時、傾斜時或工作距離很短時也不例外。在敏感樣品上，探測器的價值凸現(xiàn)出來，即使電流低至幾 pA，它也能提供清晰的背散射圖像。復合末級透鏡通過能量過濾實現(xiàn)更準確的材料對比度以及絕緣樣品的無電荷成像，進一步延伸了 T1 BSE 探測器的潛在價值。它還提供了流行選項來補充其探測能力，例如定向背散射探測器(DBS)、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測器 (GAD)。所有這些探測器都擁有的軟件控制分割功能，以便根據(jù)需求選擇最有價值的樣品信息。
每個 Apreo 都按標準配備各種用以處理絕緣樣品的策略，包括：高真空技術，例如 SmartSCAN™、漂移補償幀積分(DCFI) 和電荷過濾。對于最有挑戰(zhàn)性的應用，Apreo 可提供電荷緩解策略。其中包括可選的低真空(最高為 500 Pa)策略，通過經(jīng)現(xiàn)場驗證的穿鏡式差分抽氣機構和專用低真空探測器，不但可以緩解任何樣品上的電荷，還能提供的分辨率和較大的分析電流。
隨著分析技術的使用越來越常規(guī)化，Apreo 倉室經(jīng)過全新設計，以便更好地支持不同的配件和實驗。倉室最多容納三個 EDS/WDS 端口，可實現(xiàn)快速敏感的 X 射線測量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與(冷凍)CL、拉曼、EBIC 和其他技術兼容。
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