目錄:上海首立實(shí)業(yè)有限公司>>HORIBA（過程&環(huán)境）>>水處理及環(huán)境>> SLIA-2000二氧化硅分析裝置
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,電子 |
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二氧化硅分析裝置
自動連續(xù)監(jiān)測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測低濃度二氧化硅，也可檢測高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
測量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L
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自動連續(xù)監(jiān)測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現(xiàn)性高，既可以檢測低濃度二氧化硅，也可檢測高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動時(shí)間，強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
測量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L
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