ULVAC ei-5z系列電子束真空蒸發(fā)鍍金儀是一款可同時安裝電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā)源的多功能蒸發(fā)臺，可用于各種金屬、合金、非金屬蒸發(fā)鍍膜，可做垂直入射蒸發(fā)工藝，可做穿墻式設(shè)計，采用全自動控制，穩(wěn)定，高效。

高真空環(huán)境：提供高純度膜層，適用于高精度研究和少量生產(chǎn)。
多種材料蒸發(fā)：支持金屬、ITO、二氧化硅等多種材料的蒸發(fā)，應(yīng)用廣泛。

一、熱蒸發(fā)鍍膜概述

熱蒸發(fā)鍍膜（Thermal Evaporation Coating）是一種利用高溫使鍍膜材料蒸發(fā)，并在真空環(huán)境中沉積到基片表面形成薄膜的物理氣相沉積（PVD）技術(shù)。其核心是通過蒸發(fā)材料的氣態(tài)原子或分子在基片上凝結(jié)成膜，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、裝飾和防護(hù)涂層等領(lǐng)域。

二、工作原理

真空環(huán)境

真空腔室（通常壓力為10??~10?? Torr）的作用：

減少氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞，確保蒸氣直線傳播到基片。

防止材料氧化或污染，保證薄膜純度。

蒸發(fā)過程

加熱方式：

電阻加熱：將蒸發(fā)材料（如金、銀、鋁）置于鎢絲或鉭舟中，通電加熱至熔點(diǎn)以上。

電子束蒸發(fā)（EBE）：用電子槍聚焦高能電子束轟擊材料表面局部加熱，適合高熔點(diǎn)材料（如氧化物、碳化物）。

材料蒸發(fā)：材料受熱后升華或熔融蒸發(fā)，形成蒸氣云。

沉積成膜

蒸氣原子在基片表面凝結(jié)，通過擴(kuò)散形成均勻薄膜。

可通過控制蒸發(fā)速率、基片溫度及旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)化膜層質(zhì)量。

三、操作流程

準(zhǔn)備工作

基片處理：超聲清洗基片（如玻璃、硅片）去除表面污染物，干燥后裝入真空室。

蒸發(fā)材料裝載：將材料（如鋁粒、銀絲）放入蒸發(fā)源（如鎢舟、坩堝）。

設(shè)備檢查：確認(rèn)真空泵、電源、冷卻系統(tǒng)正常。

抽真空

啟動機(jī)械泵預(yù)抽至低真空（約10?? Torr），再啟動分子泵或擴(kuò)散泵達(dá)到高真空（10??~10?? Torr）。

預(yù)熔與蒸發(fā)

預(yù)熔：低電流加熱蒸發(fā)材料，去除雜質(zhì)氣體（避免膜層起泡）。

正式蒸發(fā)：逐步提高電流至材料蒸發(fā)，通過石英晶體監(jiān)控器（QCM）實(shí)時監(jiān)測膜厚。

沉積與冷卻

完成預(yù)定厚度后停止加熱，保持真空至基片冷卻（防止氧化）。

緩慢充入惰性氣體（如氮?dú)猓┲脸?，取出基片?/span>

四、維護(hù)要點(diǎn)

真空系統(tǒng)維護(hù)

真空泵：定期更換機(jī)械泵油，檢查分子泵軸承潤滑，防止油污染。

密封檢查：使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢測腔體密封圈（如O型圈）是否漏氣。

蒸發(fā)源維護(hù)

電阻加熱源：清理鎢舟殘留材料，避免短路；更換老化的加熱絲。

電子束蒸發(fā)源：清潔電子槍燈絲，校準(zhǔn)電子束聚焦系統(tǒng)。

腔體清潔

使用無塵布和丙酮擦拭腔體內(nèi)壁，清除沉積的膜層殘留。

避免硬物刮擦，防止損傷真空腔表面。

儀器校準(zhǔn)

膜厚監(jiān)控：定期校準(zhǔn)石英晶體傳感器，確保測量精度。

溫度控制：校驗(yàn)基片加熱器的溫度反饋系統(tǒng)。

五、常見問題與解決

膜層不均勻

原因：基片旋轉(zhuǎn)不均、蒸發(fā)速率波動。

解決：檢查旋轉(zhuǎn)電機(jī)，穩(wěn)定蒸發(fā)電流。

膜層附著力差

原因：基片清潔不或真空度不足。

解決：加強(qiáng)基片前處理，提高真空度。

蒸發(fā)源壽命短

原因：材料過載或電流過高。

解決：按額定功率使用，避免長時間滿負(fù)荷運(yùn)行。

六、應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)鍍膜：反射鏡、增透膜（如相機(jī)鏡頭）。

電子器件：金屬電極（如OLED陽極）、半導(dǎo)體封裝。

裝飾鍍膜：手表、手機(jī)外殼的金屬光澤涂層。

防護(hù)涂層：防腐蝕、抗氧化薄膜。

七、安全注意事項(xiàng)

高溫防護(hù)：操作時佩戴隔熱手套，避免觸碰加熱部件。

真空安全：充氣前確認(rèn)壓力正常，防止腔體爆裂。

化學(xué)品安全：妥善處理蒸發(fā)材料（如鎘、鉛等有毒物質(zhì)）。

ULVAC ei-5z系列電子束真空蒸發(fā)鍍金儀主要技術(shù)參數(shù)：

·適用于2-8inch各種形狀的Si、GaAs、玻璃陶瓷等基板；

·采用低空泵，可在20min內(nèi)達(dá)到3.0*10-4Pa，極限壓強(qiáng)可達(dá)3.0*10-5Pa或更低；

·采用電子束或熱蒸發(fā)源，擋板共用；

·膜厚均勻性好于±5%；