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當(dāng)前位置：研啟科學(xué)儀器（東莞）有限公司>> 等離子去膠機
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
更新時間：2024-10-22 15:31:43瀏覽次數(shù)：161次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)一、產(chǎn)品介紹
CIF推出等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。
二、產(chǎn)品特點
u PLC工控機控制整個去膠過程，手動、自動兩種工作模式。
u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化用戶操作界面顯示，自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù)，機器運行、停止提示。
u 石英真空倉，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。
u 可選用石英舟，更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。
u 有效處理面積大，可處理直徑200mm晶元硅片。
u 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。
u 采用防腐數(shù)字流量計，實現(xiàn)對氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，氣體分配均勻?？奢斎?/span>氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。
u HEPA高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
u 處理高效均勻，效率高，工藝重復(fù)性好。
u 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。
u 安全保護，倉門打開，自動關(guān)閉電源。
三、技術(shù)參數(shù)
型號 | SPB5 | SPB5plus |
艙體尺寸 | D200xΦ155mm | D200xΦ155mm |
艙體容積 | 3.8L | 3.8L |
射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自動匹配 | 自動匹配 |
激發(fā)方式 | 電感耦合 | 電感耦合 |
射頻功率 | 10-300W可調(diào) | 10-300W可調(diào)（可選10-600W） |
處理尺寸 | Φ150m | Φ150m |
氣體控制 | 質(zhì)量流量計（MFC）（標(biāo)配單路，可選雙路）流量范圍0-500SCCM（可調(diào)） | |
工藝氣體 | Ar、N?、O?、H?、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合氣體等（可選） | |
時間設(shè)定 | 1-99分59秒 | |
真空泵 | 抽速約8m3/h | |
氣體穩(wěn)定時間 | 1分鐘 | |
極限真空 | ≤1Pa | |
電源 | AC220V 50-60Hz，所有配線符合《低壓配電設(shè)計規(guī)范GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設(shè)計規(guī)范》等國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)規(guī)定。 | |
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