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- 發(fā)布時(shí)間2025-02-24
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日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供
● 非接觸、非破壞式,量測(cè)頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率,可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))
● 單點(diǎn)對(duì)焦加量測(cè)在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外 ~ 近紅外)
● 獨(dú)立測(cè)試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求
● 最小對(duì)應(yīng)spot約3μm
● 可針對(duì)超薄膜解析nk
量測(cè)項(xiàng)目
● 反射率分析
● 多層膜解析(50層)
● 光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))
膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內(nèi)部反射的影響,無(wú)法正確測(cè)量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內(nèi)部反射,即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。此外,對(duì)具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品,也可不受其影響,單獨(dú)測(cè)量上面的膜。
應(yīng)用范圍
● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體:硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD:LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)
● 資料儲(chǔ)存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學(xué)材料:濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器:液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它:建筑用材料、膠水、DLC等
規(guī)格式樣
(自動(dòng)XY平臺(tái)型)
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
---|---|---|---|
波長(zhǎng)范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測(cè)定時(shí)間 | 1秒 / 1點(diǎn)以內(nèi) | ||
光徑大小 | 10μm (最小約3μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈 鹵素?zé)?/p> | 鹵素?zé)?/p> | |
尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分) | ||
重量 | 66kg(自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分) |
量測(cè)案例
半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測(cè)定案例
FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測(cè)定
FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供
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