真空設(shè)備產(chǎn)品可分為五大類:
(1)、真空獲得設(shè)備--產(chǎn)生、改善或維持真空的裝置。包括各種獲得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空機(jī)組。
A、機(jī)械真空泵:旋片泵、往復(fù)泵、滑閥泵、羅茨泵、分子泵和液環(huán)泵等。
B、蒸汽流真空泵:水蒸氣噴射泵、油增壓泵和油擴(kuò)散泵等。
C、氣體捕集真空泵:鈦濺射離子泵、低溫泵、分子篩吸附泵和鋯鋁吸氣泵等。
D、真空機(jī)組:即由產(chǎn)生真空、測量真空和控制真空等組件組成的各類機(jī)組。
(2)、真空應(yīng)用設(shè)備~在真空環(huán)境下(低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)),應(yīng)用的各種設(shè)備。
A、真空鍍膜機(jī):蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、離子鍍膜機(jī)和等離子化學(xué)沉積裝置等。
B、真空冶煉爐:電阻爐、電子束爐、電弧爐、感應(yīng)爐和單晶爐等。
C、真空熱處理爐:淬火爐、回火爐、退火爐、滲碳爐、滲氮爐和滲金屬爐等。
D、其它真空設(shè)備:冷凍干燥設(shè)備、蒸餾設(shè)備、提純設(shè)備、浸漬設(shè)備、果蔬保鮮設(shè)備、運(yùn)輸設(shè)備、空間模擬設(shè)備、包裝機(jī)和鋼水脫氣裝置等。
(3)、真空測量儀器一測量低于一個大氣壓的氣體和蒸氣壓力的儀器。
A、低真空計(測量范圍105---102Pa)。
B、中真空計(測量范圍l02一l0-1Pa)。
C、高真空計(測量范圍l0-1一10-5Pa)。
D、超高真空計(測量范圍< 10-5Pa)。
(4)、真空檢漏儀一檢測真空系統(tǒng)或元件漏孔的位置或漏率的儀器。包括高頻火花檢漏儀、鹵素檢漏儀和氦質(zhì)譜檢漏儀等。
(5)、真空閥門一在真空系統(tǒng)中,用于調(diào)節(jié)流量、切斷或接通管路的元件。包括插板閥、擋板閥、蝶閥、電磁閥、電磁帶放氣閥、壓差閥、球閥、隔膜閥和調(diào)節(jié)閥等
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。