EDC濕法顯影刻蝕系統(tǒng)
光刻膠顯影(KrF/ArF)
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
新一代的旋轉(zhuǎn)噴淋式濕法處理機臺,不僅jinque控制試劑注射,還能夠大大節(jié)約試劑,綠色環(huán)保的濕法處理方案。
頂蓋閥門控制技術(shù)
顯影液注射頭的位置
我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術(shù),確保在基片中心位置垂直向下噴射,確保樣片表面的試劑受力均勻性。
VS 其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖,是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時,樣片收集到的試劑量不均勻,接觸面受力也不均勻,導致樣片表面顯影的時間不一致,出現(xiàn)不均勻,有些區(qū)域顯影不夠充分,有些區(qū)域過度顯影。
噴射角度jinque控制
我們的噴嘴可隨壓力大小調(diào)節(jié)噴射角度大?。ㄓ芯唧w的角度值對應(yīng)關(guān)系)。
如上圖所示,我方采用的是高jinque控制壓力噴嘴,噴射的扇形角度可以隨壓力和流速予以jinque調(diào)節(jié)。可以根據(jù)樣片的尺寸大小來調(diào)節(jié)噴射扇形面積,避免扇形過大,浪費試劑。
VS 其他國內(nèi)廠商采用的是普通噴頭,無法有效jinque地通過改變壓力調(diào)節(jié)噴射扇形角度。
干進干出
如何做到樣片的“干進干出”避免樣品在顯影完后,被腔體內(nèi)的殘液二次污染,非常重要。系統(tǒng)除了顯影以外還需要配備樣品沖洗甩干功能,吹氮功能,腔體內(nèi)壁和頂蓋清洗清洗,樣品背面清洗功能。
以上功能需確保試劑或者去離子水注射開關(guān)jinque控制,無殘留無滴漏。
VS國內(nèi)廠商目前還不具備氣動控制技術(shù)和旋轉(zhuǎn)噴淋后的清洗處理經(jīng)驗。
高效的廢液處理方案
優(yōu)化過程控制,減少化學品和消耗品額度使用量。
智能程控,操作方便
配套觸屏控制的SPIN3000軟件,所見即所得。
可視化操作,該軟件具有方便的數(shù)據(jù)存儲,導入導出,數(shù)據(jù)模擬和實施記錄功能。
VS 許多國內(nèi)廠商采用的是PLC程序菜單。
配備藍牙無線連接
為確保濕法處理的安全性,配備藍牙無線連接。
VS 國內(nèi)廠商采用的是以太網(wǎng)串口通訊連接。
基片和托盤
正確的托盤可確保您的基片在處理過程中的穩(wěn)固。
卡式鏤空托盤是以小接觸面來固定基片,可對基片的下方實現(xiàn)背面沖洗(BSR)。
安全可靠
經(jīng)標準獨立測試
已通過Intertek®測試,Intertek®是一家獨立性認證測試機構(gòu)。
聯(lián)鎖裝置
當蓋子打開時聯(lián)鎖可防止旋轉(zhuǎn),控制軟件可以根據(jù)傳感器信息設(shè)置中止和警報狀態(tài)。相互獨立的閥門設(shè)置可防止混合不溶的化學試劑。
定制濕站
裝載和操作一體化,完整高效的濕法處理方案。
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